Occasion APPLIED MATERIALS P 5000 #163405 à vendre en France
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Vendu
ID: 163405
Taille de la plaquette: 8"
PECVD system, 8"
Configuration: (4) CVD chambers
Process gases: Silane, Ammonia, Nitrous Oxide, Nitrogen Trifluoride
Precision 5000 Mark II Mainframe
Precision 5000 Software Version 5.03 (Year 2000 Compliant)
SECS Communication Port
Laminar flow mini-environment behind input/output window
Mark II ZA (zero adjust) actuators and gates for process chambers
Process chamber configured for ceramic chuck operation
15 slot storage elevator for faster run rates
eDOC remote system for combustion of un-reacted silane
Nitride thin film configured (no hotbox)
Heat exchanger
Remote frame with remote AC power box
(1) High frequency RF generator per chamber on remote frame
(4) BOC-Edwards iQDP40/iQMB250 pumps/blowers for dep chambers
BOC-Edwards iQDP80 pump for loadlock
Ergonomic Cassette Load/Unload
Excursion Prevention (EP) software ready
Currently crated.
MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le réacteur P 5000 est un équipement de fabrication de semi-conducteurs de pointe utilisé pour graver et former des motifs sur des plaquettes. Cette machine dispose d'une capacité de photorésistance supérieure, permettant au processus de gravure d'être incroyablement précis et détaillé. Le réacteur APPLIED MATERIALS P5000 a une taille de champ pouvant atteindre 16 pouces, ce qui permet des procédés à plus grande échelle. La buse utilisée pour créer le motif est très petite et peut être changée facilement, permettant l'application d'une large gamme de motifs de gravure. P-5000 réacteur dispose d'un procédé de gravure optimisé avec une utilisation chimique minimale, permettant une meilleure efficacité et des économies accrues. Ce système utilise ses systèmes intégrés de surveillance et d'ordinateur pour atteindre les taux de gravure les plus élevés possibles. Le réacteur APPLIED MATERIALS P-5000 est également doté d'un G-Laser breveté, un laser ablatif qui permet de terminer le processus de gravure en une fraction du temps des systèmes de gravure traditionnels. Ce laser permet également plus de détails et de précision que d'autres systèmes. En plus de ses capacités de gravure supérieures, P5000 réacteur comprend également une unité de contrôle de haute précision. Cette machine comprend un microscope haute résolution, ainsi que des capteurs qui mesurent la composition chimique de la plaquette tout au long du processus de gravure. Cela garantit que toutes les plaquettes sont de la norme désirée avant d'être libérées de l'outil. Le réacteur P 5000 est conçu pour fonctionner dans un environnement très propre, avec sa chambre scellée empêchant toute particule de poussière internationale. Cette chambre est remplie d'azote ultra-pur, ce qui contribue à réduire l'oxydation des plaquettes. Cet actif dispose également d'un modèle de filtrage avancé pour retourner les particules créées au cours du processus de gravure. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P 5000 est le choix parfait pour toute ligne de fabrication de semi-conducteurs. Ses capacités de gravure et d'inspection avancées, associées à un environnement de salle blanche et à l'efficacité énergétique, font de cet équipement un excellent choix pour la production de plaquettes de la plus haute qualité.
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