Occasion APPLIED MICROSTRUCTURES MVD 100 #293647151 à vendre en France
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ID: 293647151
Style Vintage: 2014
Molecular Vapor Deposition (MVD) system
Vacuum:
Pumping speed: ≥100 m³/h
Base pressure: ≤10 mTorr
Storage:
Humidity: 25 to 85% (Non - condensing)
Temperature: 5 to 70°C (41 to 158°F)
Exhust flow:
System exhaust: 200 CFM
Gas panel louvers: 200 CFM
Power supply:
Voltage: 208 VAC, ±10%, 3Φ, 5 Wire-Y (Ground + netural)
Current: 60 Amps
Full load:
58 Amps (Maximum)
46 Amps (Nominal)
CB1 Interrupter current: 10 K at 240 V
K1 Impuls withstand voltage: 8 kV
2014 vintage.
MICROSTRUCTURES APPLIQUÉES Le MVD 100 est un réacteur à couches minces compacte à ultra-haut vide (UHV) à base de plasma à micro-ondes conçu pour soutenir une variété de procédés industriels de fabrication de couches minces. Sa mission est de fournir une plate-forme économique et fiable pour le dépôt de couches minces dans une variété de compositions et d'épaisseurs. Ce réacteur est équipé d'un équipement à double fréquence fonctionnant dans des bandes de fréquences de 2,45 ou 5,8 GHz, permettant à l'opérateur de commuter entre les dépôts en fonction du matériau pelliculaire désiré. Sa construction en acier inoxydable associée à une chambre en aluminium robuste en font un système robuste capable de résister à des cycles de maintenance à long terme. MVD 100 utilise une unité de vide sec innovante à haute énergie pour capturer des particules résiduelles extrêmement petites et assurer un environnement vide sans film avant le début du dépôt. Cette machine utilise une combinaison de turbomachines à entraînement direct, de pompes chimiques et de pompes à air comprimé sans huile pour atteindre une pression de base de 10-8 Torr, avec la possibilité d'atteindre 6 x 10-9 Torr. L'outil innovant de distribution de plasma utilisé par APPLIED MICROSTRUCTURES MVD 100 est conçu pour assurer une uniformité plasmatique maximale et une contamination minimale des matériaux du substrat. Il est capable de créer un environnement plasmatique avec une gamme de densités et d'espèces plasmatiques. L'actif peut être ajusté pour tenir compte des exigences spécifiques des processus réactifs ou non réactifs. La conception du MVD 100 garantit en outre une solution économique pour l'entretien préventif. Sa conception modulaire permet un accès rapide et facile à tous ses composants, y compris l'alimentation électrique, le contrôle plasma, l'emballage et le transport, ainsi que d'autres connexions externes. En outre, ses caractéristiques de sécurité comprennent un modèle de verrouillage de sécurité, qui permet de réduire immédiatement le plasma lorsque des fluctuations de pression inattendues sont détectées. MICROSTRUCTURES APPLIQUÉES Le MVD 100 est un outil essentiel pour la fabrication de films minces, tels que ceux utilisés dans les technologies de microélectronique, de revêtement optique et d'affichage à écran plat. Ses performances et ses avantages en termes de coûts en font un candidat viable pour de nombreux procédés industriels de fabrication de couches minces.
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