Occasion ASM / ACCU-FAB Epitaxy / 1250 #156237 à vendre en France
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ID: 156237
EPI reactor
Includes:
ACCU-FAB 1250 max servo motion controller system:
Power: 115 VAC +/- 10%, 50/60 Hz, Single Phase, 1500 VA Max
EPI reactor loader
Built to interface EPI reactor with a Smith interface
(1) 8" cassette (up to 26 wafers)
ACCU-FAB 1250 servo controller:
19" rack mountable chassis
AT bus
Two RS-232 ports
64k non-volatile CMOS memory
(10) Relay outputs
(12) Optically isolated inputs
5.25 or optional 3.5 floppy disk drive, hard disk, and 1 MB RAM
Built-in CRT and keyboard
ACCU-FAB Accubot:
Compact, clean-room compatible
Four-axis SCARA style robot
Four independent joints, cassettes can be located side-by-side vs radially
Range of Motion:
Standard Axis 1 (Z): 9.25 Inches
Custom Axis 1 (Z): 9.3 to 30.0 Inches available
Axis 2: +/- 157
Axis 3: +/- 179
Axis 4: +/- 169
R1 (centerline A1 to centerline A2 = 15.0 inches to tool flange): 7.5 Inches
R2 (centerline A2 to centerline A3): 7.5 Inches
Repeatability: +/- .002 Inch
Weight: 86 Pounds (Does not include the entire item or Shipping I believe)
Maximum Speed:
Axis 1: 10 in. /sec.
Axis 2: 180 / sec.
Axis 3: 180 / sec.
Axis 4: 180 / sec.
Accelerations: 32 inch / sec^2, 540 / sec^2
Payload:
At maximum speed: 3 lbs.
At reduced speed: 6 lbs.
Allowable end effector moment of interia: .02 inch-pounds-sec^2.
ASM/ACCU-FAB Epitaxy/1250 est un équipement de procédé utilisé pour l'épitaxie, qui est une technique de croissance de couches de différents matériaux sur une seule surface de substrat. En particulier, ASM 1250 est un four horizontal conçu pour la production de couches d'épitaxie sur des substrats semi-conducteurs (Si, GaAs, InP) et optiques pour une large gamme d'applications. Le 1250 est un four multi-zones composé d'un canoë plaquette insérable, d'un comburant, d'un loadlock, d'un chauffe et d'un gaz porteur dans un tube à quartz. Le four est capable de traiter des plaquettes jusqu'à 12 « et est équipé d'un diamètre de tube en quartz de 4 » et d'une longueur de tube de 30,5 cm. Cela permet à la 1250 d'avoir une plus grande uniformité de température sur toute la surface du substrat et supporte une plus grande précision du procédé. Il permet également au substrat d'épitaxie de recevoir un flux continu de gaz sur un gradient de température fixe. Le 1250 comprend un système de contrôle multi-zones qui permet un contrôle précis de la température dans les zones cruciales. Cela contribue à améliorer l'uniformité de l'épitaxie et la répétabilité des paramètres du processus. De plus, le 1250 est équipé de composants annexes tels que des régulateurs de débit, des indicateurs de pression, des rotamètres, des régulateurs de débit massique et des régulateurs de bulles, entre autres. Ces composants permettent un dosage précis et uniforme des gaz et un flux porteur dans le processus d'épitaxie. Le 1250 comprend également une plate-forme d'asservissement et un microprocesseur embarqué pour faciliter la télésurveillance du processus d'épitaxie. Cela garantit un fonctionnement sûr, précis et répétable du processus. Dans l'ensemble, le réacteur ASM Epitaxy/1250 est un équipement de procédé de pointe pour la production de couches d'épitaxie sur des substrats semi-conducteurs et optiques. C'est un choix idéal pour les fabricants de dispositifs semi-conducteurs de haute qualité et fiables. Grâce à son contrôle précis de la température, à ses faibles coûts de maintenance et à ses capacités pratiques de télésurveillance, le 1250 peut fournir l'épitaxie requise pour un large éventail d'applications.
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