Occasion ASM Epitaxy #166041 à vendre en France

Les réacteurs d'épitaxie ASM assurent un dépôt épitaxial efficace, sûr et précis des matériaux semi-conducteurs. Le dépôt épitaxial est le processus de dépôt de couches ultrathermiques de matériau semi-conducteur sur un substrat, afin de développer et d'améliorer les performances du dispositif semi-conducteur. Le réacteur à épitaxie est un système réactionnel efficace qui utilise la technique du dépôt physique en phase vapeur, qui transporte un matériau source au substrat pour le dépôt par évaporation, pulvérisation, bombardement ionique andor. Le réacteur est constitué de plusieurs composants, dont une chambre de matériau source, une chambre à vide et un étage de substrat. La chambre de matériau source est constituée d'une chambre à vide où le matériau source est chauffé et évaporé. L'étage de substrat est typiquement refroidi pour favoriser une croissance uniforme et rapide du substrat. La surface du substrat est alors exposée au matériau source vaporisé, et le matériau coaleste à la surface du matériau substrat pour former les couches épitaxiales. Le réacteur fournit une méthode efficace de dépôt épitaxial grâce à son uniformité d'épaisseur, de couverture et de qualité de couche épitaxiale. Les couches obtenues sur le substrat ont habituellement une épaisseur uniforme, ainsi qu'une couverture uniforme sur le substrat. De plus, en raison de la température de croissance plus basse, la perfection cristalline et/ou structurelle du matériau évaporé est maintenue. L'épitaxie ASM fournit également une uniformité dans la vitesse de croissance et de dépôt, ce qui contribue à maintenir la perfection cristalline du matériau évaporé, ainsi que la couverture uniforme et l'épaisseur des couches. La couverture uniforme et l'épaisseur de la couche permettent des rendements efficaces, car il y a moins de risque de défauts. Le réacteur est très efficace, en raison de sa facilité d'utilisation. Le matériau source peut être facilement changé, et l'utilisateur peut contrôler la vitesse de dépôt au besoin. En outre, le réacteur dispose d'interfaces utilisateur faciles à comprendre, ce qui permet aux nouveaux utilisateurs de comprendre facilement les paramètres de fonctionnement du processus de dépôt. En conclusion, l'épitaxie offre une méthode sûre et précise pour le dépôt épitaxial. Il simplifie le processus de dépôt, tout en assurant à l'utilisateur une couverture uniforme, une épaisseur de couche et une perfection cristalline du matériau évaporé. De ce fait, l'efficacité du réacteur est bénéfique pour les concepteurs et les fabricants de dispositifs semi-conducteurs, grâce à ses résultats fiables et cohérents.