Occasion AVIZA / OMEGA 201 #9396141 à vendre en France

AVIZA/OMEGA 201 est un réacteur développé par Zircon Corporation comme outil de fabrication et de chimie de semi-conducteurs. Ce réacteur utilise jusqu'à trois niveaux de procédés plasmatiques pour obtenir les résultats souhaités : dépôt chimique en phase vapeur à basse pression (LPCVD), gravure chimique par plasma (CPE) et dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Le réacteur est un dispositif cylindrique d'environ sept pieds de haut et deux pieds de large, et il est enfermé dans une chambre à vide en acier inoxydable. AVIZA 201 fonctionne comme une chambre à plasma à pression atmosphérique, en particulier dans le cycle électronique couplé par induction. De l'extérieur, ce réacteur comporte deux ports distincts pour les procédés internes : un pour l'entrée de gaz de procédé et un pour une pompe à vide. Les internes du réacteur sont constitués d'une alimentation électrique, d'une alimentation sous vide, de parois de chambre et d'électrodes facilitant le cycle électronique. Chacun de ces composants fonctionne en synergie pour créer le résultat souhaité. L'alimentation utilisée dans OMEGA 201 est un générateur de tension à moyenne fréquence capable de délivrer jusqu'à 1000 watts de puissance. Cette puissance est utilisée pour créer l'environnement plasmatique dans la chambre du réacteur. L'alimentation en vide pompe la chambre jusqu'à une pression de 20 mililibar ou moins, fournissant ainsi un environnement atmosphérique stable pour les procédés. Les parois et électrodes de la chambre sont métalliques et revêtues d'un matériau résistant à la chaleur et à la dégradation chimique. Les électrodes sont utilisées pour créer le cycle électronique, par lequel une énergie électrique est transférée aux électrodes et crée un plasma en excitant le gaz de procédé à un état de haute énergie. Ce plasma est utilisé pour créer la réaction souhaitée au sein de la chambre du réacteur, soit par des procédés CVD, CPE ou LPCVD. 201 est conçu pour fournir des résultats extemporanés et précis pour la fabrication de semi-conducteurs et la chimie. L'alimentation précise et jusqu'à trois niveaux de traitement plasmatique créent un environnement optimal pour les réactions chimiques qui ont été optimisées pour un rendement maximal. Ce réacteur a été utilisé avec succès pour créer des semi-conducteurs et des produits de haute technologie.