Occasion CAMBRIDGE NANOTECH Fiji F200 #293651884 à vendre en France
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ID: 293651884
Style Vintage: 2010
Atomic Layer Deposition (ALD) system
Substrate, 8"
ADIXEN ATH-400M Pump
Aluminum oxide
Manual load lock
Chamber
(6) Heater precursor lines
Gases: N2, Ar, O2, H2, NH3
Plasma enhanced ALD
Thermal ALD with temperature: Up to 300°C
No heater jacket
No APC
Optimize:
ALD Reactor
Heater
Trap geometry
2010 vintage.
CAMBRIDGE NANOTECH Fidji F200 est un puissant réacteur à plasma à pression atmosphérique de qualité industrielle. Il est idéal pour le dépôt précis de couches minces, l'activation de surface, le traitement de surface et le traitement post-dépôt. Grâce à sa capacité à modifier chimiquement la surface de tout substrat - métaux, semi-conducteurs, nanoparticules et diélectriques - avec une grande variété de chimies et de structures de surface, il permet la production de structures fonctionnelles (hybrides) et de matériaux aux propriétés adaptées à des applications spécifiques. CAMBRIDGE NANOTECH FIDJI F 200 est basé sur le principe de la cathode chaude, source de plasma inducteur à résonance directe et utilisant la décharge de barrière diélectrique. Il s'agit d'une chambre multi-zones avec des éléments chauffants résistifs à température contrôlée avec précision pour permettre le dépôt contrôlé d'une variété de couches minces sur tout type de substrats. La chambre est pourvue d'un orifice ouvert pour le chargement et le déchargement des échantillons. Fidji F200 est livré avec un logiciel de contrôle multimode intuitif et convivial qui permet le fonctionnement à distance et la sélection de paramètres ainsi que la création de profils de contrôle personnalisés pour des applications spécifiques. Il est compatible avec une grande variété de gaz de procédé et peut être utilisé avec l'argon, l'azote, l'oxygène, le dioxyde de carbone, l'hydrogène, le néon ou l'ammoniac. La source de plasma est très stable et peut être ajustée à une combinaison complexe de débits de gaz. Le FIJI F 200 est conçu pour le traitement en ligne de haute production et une large gamme d'applications dans les industries de la micro et de la nanofabrication. Il a un débit élevé et dispose d'un démarrage/arrêt rapide du processus, permettant une production continue et un contrôle efficace des coûts. Il est très efficace avec une faible consommation d'énergie, une répétabilité de processus exceptionnelle et un contrôle plasma de haute précision. En conclusion, CAMBRIDGE NANOTECH Fidji F200 est un réacteur à plasma innovant et puissant qui combine des contrôles numériques de pointe avec une ingénierie plasma précise, fournissant une solution de traitement de surface inégalée. Il est capable de déposer avec précision des couches minces sur tout type de substrat et peut être utilisé dans diverses applications telles que la réalisation de couches minces ou de diélectriques, les traitements d'activation de surface et les traitements post-dépôt.
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