Occasion CAMBRIDGE NANOTECH Fiji F200 #9179531 à vendre en France

Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.

ID: 9179531
Style Vintage: 2010
Atomic layer deposition system Substrate, 8" Aluminum oxide Manual load lock Dual chamber (6) Heater precursor lines (5) Plasma gas lines Plasma enhanced ALD With (3) gases: O2, Ar, N2 Thermal ALD with temperature: Up to 300°C Turbo pump with APC Chemicals: TMA, Zr, Ti Optimize: ALD Reactor Heater Trap geometry 2010 vintage.
CAMBRIDGE NANOTECH Fidji F200 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) utilisé à la fois pour la recherche et la production industrielle de couches minces. Il est conçu pour être utilisé dans une variété d'applications, notamment : production de cellules solaires, optoélectronique, semi-conducteurs, MEMS/NEMS, et écrans. CAMBRIDGE NANOTECH FIDJI F 200 est un équipement CVD haute précision de nouvelle génération qui peut déposer périodiquement des films minces jusqu'à 0,5 µm d'épaisseur. Il est conçu pour le dépôt expérimental de métaux, de semi-métaux et d'oxydes métalliques. Le système comporte deux modules de processus intégrés : le dépôt et la mobilité. Conçu pour être fiable et convivial, Fidji F200 a un faible taux de génération de particules, un fonctionnement à basse contre-pression, une faible contrainte du film et un refroidissement uniforme du côté arrière pour améliorer l'uniformité en mode lot. Le FIJI F 200 est un réacteur monobloc, disponible en deux configurations modèles : le CL-V et le PD-V. Les deux modèles sont dotés d'une interface utilisateur intuitive et graphique et d'un microscope vidéo intégré. La configuration CL-V comprend un bras de levage intégré qui permet un chargement et un déchargement faciles des échantillons/substrats sans contamination. La version PD-V dispose d'un « self-stage » intégré avec un support de substrat indépendant qui permet l'ouverture de l'unité pour le chargement et le déchargement manuel. CAMBRIDGE NANOTECH Fidji F200 est livré avec une variété d'options, y compris l'automatisation, la machine de surveillance des gaz OneView, une plaque de chauffage en forme d'anneau pour un meilleur contrôle de l'uniformité, et un module de refroidissement latéral. Pour répondre aux besoins d'une variété de procédés, ce réacteur est équipé d'une grande variété de sources de procédés et de gaz vecteurs. Pour un contrôle plus précis des dépôts, l'outil comprend une chambre de sélection de quartz vibrante qui aide à isoler l'échantillon des gaz d'échappement des réacteurs, fournissant un environnement propre et propice à la réaction. CAMBRIDGE NANOTECH FIDJI F 200 est un réacteur CVD fiable et convivial qui peut être utilisé pour diverses applications en couches minces avec un contrôle précis des dépôts. Ce réacteur est une solution rentable tant pour la recherche que pour la production industrielle de produits en couches minces.
Il n'y a pas encore de critiques