Occasion CAMBRIDGE NANOTECH Savannah S-200 #293811829 à vendre en France

ID: 293811829
Taille de la plaquette: 8"
Atomic layer deposition (ALD) system, 8" Ozone generator Vacuum pump Gases used: Ozone, Trimethylaluminum, Diethylzinc, and Ammonia, Anhydrous.
CAMBRIDGE NANOTECH Savannah S-200 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour le traitement à haut débit et le dépôt à l'échelle nanométrique. L'équipement utilise une seule chambre de réacteur à quartz avec une porte hermétiquement fermée, qui abrite un processus de filage de wafer de haute précision. Le S-200 est capable de contrôler avec précision la température, le débit de gaz réactif et les paramètres de pression pour obtenir une répétabilité expérimentale cohérente. Le S-200 utilise une plage de température de 30-450 ° C, une plage de pression de 0-20 Torr, et des gaz de réaction sélectionnables capables de réacteurs de 150-750 mm. La chambre du réacteur à quartz abrite la plaquette de substrat, le moteur de rotation et les actionneurs de purge linéaires/ms. Un double creuset dans la chambre du réacteur permet l'utilisation de deux matériaux à la fois, et le contrôle précis des réactifs. Le moteur de rotation délivre 8-20K tr/min de vitesse de rotation, ce qui permet des temps de dépôt rapides et un contrôle précis de l'épaisseur. A l'intérieur de la chambre du réacteur se trouvent quatre orifices d'entrée de gaz. L'utilisateur peut choisir des gaz de réaction dans les deux ports d'entrée, permettant des expériences doubles avec différents types de réactifs. Le procédé de filage des plaquettes de haute précision permet un dépôt rapide et uniforme des matériaux sans qu'il soit nécessaire de filer un substrat pour accélérer le procédé. Après filage, le S-200 évacue le gaz non réagi de la chambre du réacteur, réduisant la réactivité du réactif résiduel et abaissant la non-uniformité du film. Le S-200 offre de nombreuses fonctionnalités utilitaires tout aussi bien adaptées à la R-D qu'aux environnements de production. Le système comprend également une interface utilisateur graphique puissante (UI) pour configurer les paramètres du réacteur, définir les zones de processus, établir les séries de lots et surveiller l'historique des dépôts. Les outils intégrés de gestion et de rapport permettent aux utilisateurs de suivre les résultats expérimentaux et les performances des unités, ainsi que les recherches documentaires. La conception conviviale de la machine facilite l'accès aux données détaillées du processus, et CAMBRIDGE NANOTECH SAVANNAH S200 permet une analyse et une manipulation rapides des données. Savannah S-200 est un réacteur CVD fiable et précis bien adapté pour le dépôt de films nanométriques. Le réacteur offre des temps de traitement rapides, des gaz de réaction sélectionnables et une large gamme de températures, ce qui le rend idéal pour des applications de recherche et de production à haut débit.
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