Occasion CAMBRIDGE NANOTECH Savannah S-200 #9365906 à vendre en France

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ID: 9365906
Atomic Layer Deposition (ALD) System Pneumatic pulse valves Ozone generator Vacuum pump Aspect ratio: > 2000 Substrates size: Up to 8" (6) Precursor lines Gases: Ozone, Trimethylaluminum, Diethylzinc, Ammonia and Anhydrous Power supply: 115 V, 50/60 Hz, 20 A CE Marked.
CAMBRIDGE NANOTECH Savannah S-200 Reactor est un équipement de dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD) conçu pour la fabrication avancée de micro-appareils. Cet outil permet de déposer la technologie de croissance des films avec une empreinte incroyablement faible. Le S-200 est adapté à une large gamme de films diélectriques et métalliques avancés ainsi qu'à des applications innovantes de recherche sur les matériaux. La source d'énergie du S-200 est un générateur RF dont la fréquence varie de 13,56 MHz à 40 MHz. La puissance réglable varie de 200 W à 3 000 W et le niveau de précision de + 0,01 ms. Les tailles de substrat du S-200 sont limitées à 4 pouces (10 cm) de plaquettes avec une plage de température maximale de 450 ° C La pression réglable varie de 0,6 Torr à 10 Torr. Pour obtenir des résultats de dépôt chimique en phase vapeur de haute qualité, le S-200 ne nécessite que 5000 sccm d'écoulement. La chambre à vide de dépôt du S-200 comporte des tubes d'entrée de gaz pour créer un flux uniforme de gaz pour le dépôt. Des électrodes sont utilisées pour générer du plasma. Une pompe getter non évaporable (NEG) piège les impuretés à l'aide d'un réseau de matériaux getter à base de titane. Le groupe turbo-moléculaire de pompage est utilisé pour maintenir la pression de la chambre. Le S-200 possède des caractéristiques de sécurité avancées. Un circuit de contrôle de la limite de température évite tout écoulement anormal de gaz ou d'autres dysfonctionnements de la chambre. Un câble haute tension isolé isole les sources d'énergie élevées du système. Le collecteur d'entrée du S-200 restreint l'écoulement des gaz pour assurer une plus grande pureté dans la chambre. Le S-200 dispose également d'une unité de stockage de recettes, pour stocker jusqu'à cinq recettes. Un réseau de moteurs est inclus de telle sorte que les différents étages de mouvement sont commandés par des joysticks séparés selon la préférence de l'utilisateur. Un écran tactile LCD couleur avec un design convivial et intuitif permet à l'utilisateur de programmer la machine avec précision. CAMBRIDGE NANOTECH SAVANNAH S200 Reactor est un outil de dépôt de haute technologie qui offre des solutions PECVD sûres et fiables pour des applications avancées de films diélectriques et métalliques. Le mélange efficace de gaz, la commande sous vide et la commande précise du moteur font de ce réacteur un choix idéal pour les laboratoires de recherche et l'environnement de production.
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