Occasion CSD EPITAXY EpiPro 5000 #9068399 à vendre en France

EPITAXY EpiPro 5000 est un équipement de dépôt épitaxial conçu pour la production de structures semi-conductrices pour l'optoélectronique, les matériaux avancés et les circuits intégrés haute performance. Le système est un réacteur de dépôt épitaxial discret à chambre unique conçu pour assurer un contrôle de haute précision de tous les paramètres liés à la croissance épitaxiale. Il utilise une technique de croissance assistée par faisceau électronique qui combine les dépôts chimiques en phase vapeur (EBE-CEV) thermiques et plasmatiques pour obtenir une excellente uniformité et qualité. L'unité est capable de déposer des matériaux sur des substrats jusqu'à 200mm de diamètre et jusqu'à 250mm d'épaisseur. La technique EBE-CEV utilisée par EpiPro 5000 est conçue pour produire des couches épitaxiales de haute pureté avec un excellent contrôle de l'épaisseur des couches et des concentrations de dopage. Le faisceau d'électrons utilisé dans la machine est ultra rigide, permettant un contrôle très précis de l'épaisseur de la couche et de la concentration de dopage, tandis que les analyses spectrochimiques d'ordre élevé permettent un contrôle du niveau de quasi-saturation de la détection des impuretés. De plus, le motif de balayage arbitraire du faisceau assure un dépôt uniforme sur la taille maximale du substrat, ce qui permet d'améliorer l'échelle des procédés de fabrication. CSD EPITAXY EpiPro 5000 offre également plusieurs couches supplémentaires de contrôle de processus sophistiqué pour assurer le plus haut degré d'uniformité et de qualité. Cela comprend une surveillance avancée des chambres de dépôt au moyen d'un spectromètre in situ pour détecter les gaz à l'intérieur de la chambre de dépôt, ainsi qu'un ensemble de caméras pour surveiller la croissance en temps réel et inspecter les défauts et les contaminants. L'outil comporte également plusieurs systèmes de contrôle de ventilation pour assurer le maintien de la chambre de dépôt à la température et à la pression optimales. La chaleur est un autre facteur important lorsqu'il s'agit de dépôt épitaxial et EpiPro 5000 est conçu pour y remédier en incorporant des pyronomètres haute performance et des systèmes de refroidissement de l'eau conçus pour maintenir le substrat et la chambre de dépôt une température de fonctionnement acceptable. De plus, l'actif est équipé d'un modèle de flux de gaz inerte afin d'assurer l'uniformité dans toute la chambre de dépôt et de minimiser la turbulence du flux de gaz. CSD EPITAXY EpiPro 5000 offre également une surveillance automatisée et un contrôle des paramètres, permettant aux scientifiques d'expérimenter des processus difficiles à un rythme avancé. L'équipement est également extrêmement fiable et fournit une longue durée de vie lorsqu'il est utilisé correctement. En résumé, EpiPro 5000 est un système de dépôt très avancé et fiable conçu pour produire une couche épitaxiale de haute qualité et uniforme avec un excellent contrôle et précision.