Occasion JEL / JUSUNG SDP_ALD_SIN #9282351 à vendre en France

JEL SDP_ALD_SIN est un type de réacteur chimique qui combine un substrat monolithique à lit fixe avec une grande surface d'échange thermique. Ce réacteur est spécialisé dans le traitement filmogène de films semi-conducteurs composés II-VI. Il est utilisé pour une variété de composants Internet et télécoms, tels que des films diélectriques pour dispositifs photoniques et opto, des couches passivées pour composants actifs et des matériaux de filtres optiques à couches minces. Ce réacteur est composé d'un tube d'alumine à col en quartz, d'un réchauffeur, d'un réservoir, d'un boîtier d'entrée-sortie, d'un tube en cristal de quartz et d'un joint d'étanchéité sous vide. Le collier fonctionne comme un précurseur en faisant circuler dans le réacteur un fluide composé des molécules précurseurs le long du tube à quartz. Ce réacteur utilise un procédé appelé dépôt de couche atomique (ALD) pour déposer une couche du matériau sur le tube. Le tube à cristaux de quartz agit comme un four à haute température, élevant la température à l'intérieur du réacteur entre 300 et 400 degrés Celsius, selon l'application. Ceci permet aux molécules du précurseur d'adsorber sur le tube à quartz et de former un film mince. Le boîtier d'entrée-sortie et le joint de vide permettent de créer un vide inférieur à 10-8 Torr pour que le processus se produise. Le chauffage permet également un contrôle précis de la température du four afin que le film mince déposé puisse être contrôlé et contrôlé avec précision. Ce réacteur est apte à déposer des couches de matériau très minces, des couches aussi minces que 1,2 angström pouvant être déposées. Le dépôt uniforme du matériau sur toute la surface du tube est également possible, ce qui permet d'obtenir des couches minces uniformes et précises. De plus, le réacteur est capable de vitesses de dépôt élevées, ce qui permet un temps de traitement rapide. Le réacteur JUSUNG SDP_ALD_SIN est parfait pour le dépôt de couches minces et uniformes de divers matériaux, et est idéal pour les composants télécoms et Internet. La facilité d'utilisation et le rapport coût-efficacité de ce réacteur en font un choix privilégié pour ceux qui cherchent à déposer rapidement et précisément des couches minces de matière.