Occasion LAM RESEARCH 839-019090-632 #293662521 à vendre en France

LAM RESEARCH 839-019090-632 est un type de réacteur de gravure plasma utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour le dépôt atomique. Il est constitué d'une chambre cylindrique avec deux électrodes à l'intérieur, une électrode inférieure et une électrode supérieure, séparées par un faible intervalle. La chambre est remplie d'un mélange gazeux, typiquement comprenant de l'argon, de l'oxygène et de l'azote et est évacuée à basse pression. Entre les deux électrodes est appliquée une puissance RF initiant un plasma entre les deux. Ce plasma créé bombardera les parois de la chambre, provoquera la gravure et le dépôt d'atomes, changeant finalement la couche et la structure du matériau à l'intérieur de la chambre. Le système a la capacité de traiter une variété de différentes tailles de plaquettes allant de 300 mm à 150 mm et offre une grande variété d'options de processus. Le réacteur est également livré avec deux loadlocks, un refroidisseur et 150 mm à 300 mm capacités. Il est équipé d'un générateur RF haute fréquence et d'alimentations électriques, de diagnostics avancés, d'un contrôle de puissance avancé et d'une variété de capteurs. Le diagnostic avancé offre des outils qui permettent un contrôle précis des paramètres plasmatiques. Le réacteur est conçu avec les performances et la fiabilité à l'esprit et est personnalisable pour répondre aux différentes exigences des utilisateurs. La chambre est en acier inoxydable et est conçue avec les normes de sécurité les plus élevées à l'esprit. Les électrodes sont construites à partir d'aluminate de tungstène et résistantes aux bombardements plasmatiques. Le réacteur dispose également d'un contrôle de processus avancé, ce qui signifie qu'il est capable d'auto-ajuster pour optimiser et fournir de façon répétable une fenêtre étroite de paramètres de processus. 839-019090-632 est un réacteur polyvalent et puissant, idéal pour la R&D et la gravure de production. Son contrôle de procédé avancé assure un processus répétable, un contrôle précis des paramètres plasmatiques, et finalement des rendements élevés. Il est également compatible avec les normes de sécurité et de qualité les plus récentes et garantit fiabilité et performance dans une grande variété d'applications.