Occasion LAM RESEARCH Altus Max #293625737 à vendre en France

RECHERCHE LAM Altus Max est un équipement avancé et fiable de réacteur à plasma inductif (PIC) conçu pour soutenir un large éventail d'applications scientifiques et industrielles. Doté de technologies de pointe et d'options personnalisables, il peut être utilisé pour des procédés allant de la gravure, du dépôt, de la croissance de couches minces et de la passivation, au dépôt optique de couches minces et au dépôt chimique en phase vapeur. Altus Max présente un eChamber™, un élément révolutionnaire et essentiel du réacteur ICP. Cette conception brevetée permet aux utilisateurs de choisir parmi l'une des trois courbes de puissance uniformes, permettant un contrôle précis du processus plasma. La chambre dispose d'une excellente séparation électrique des processus, même avec des niveaux de puissance élevés, et dispose d'une conception éprouvée du débit de gaz pour un maintien en douceur et stable des paramètres plasmatiques désirés. Avec un grand nombre de gaz de procédé disponibles, le procédé peut être facilement personnalisé aux exigences de toute application. RECHERCHE LAM Altus Max comprend également un système unique d'injection de gaz. Cette conception brevetée permet un contrôle simultané des gaz multiples en une seule fois, permettant un réglage précis des paramètres plasmatiques tout en optimisant le débit. Un contrôle de pression est également prévu pour assurer une modulation précise du plasma. Altus Max est équipé de capacités de surveillance et de contrôle avancées. Un écran tactile permet d'accéder facilement à tous les paramètres du processus, tandis qu'un logiciel intégré d'enregistrement des données et de gestion des recettes permet un contrôle précis des paramètres du processus. L'unité comprend également des capacités d'analyse de gaz et de spectromètre de masse, permettant un contrôle et une analyse précis de l'environnement du processus. RECHERCHE LAM Altus Max est une machine à réacteur ICP avancée, flexible et fiable. Avec ses systèmes brevetés eChamber™ et Gas Injection, il offre un large éventail d'options pour les scientifiques et les ingénieurs qui recherchent un contrôle précis et répétable des processus. Avec ses capacités intégrées de surveillance et de contrôle et ses multiples options de gaz, il peut gérer facilement même les applications les plus difficiles.