Occasion LAM RESEARCH Altus Max #293804671 à vendre en France

RECHERCHE LAM Altus Max est un réacteur à haute performance de dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD) conçu pour des applications avancées de dépôt de matériaux. Il convient à un large éventail de procédés, y compris des taux de dépôt élevés et des couches ultra-minces pouvant atteindre 5 nm d'épaisseur. L'équipement dispose d'une conception de source avancée, avec débit de gaz indépendant, contrôle de la pression et de la température pour plusieurs gaz. Le contrôle avancé des procédés permet une uniformité tridimensionnelle pour des applications exigeantes en couches minces. Altus Max offre des fonctionnalités matérielles et logicielles intégrées pour un contrôle optimisé des processus. Il dispose d'une grande charge linéaire pour un maximum de temps de disponibilité, d'un logiciel max Tempo™ pour une analyse rapide des processus, et d'une architecture modulaire pour un contrôle flexible du système. L'unité comprend également un contrôleur inno@mapper™ C1 avec une source médiatique intégrée, et divers niveaux d'intégration pour le contrôle et la mesure des processus. RECHERCHE LAM Altus Max est construit selon les normes de sécurité les plus élevées, et la machine comprend plusieurs fonctions de sécurité, telles que la surveillance de la pression et de la température, les arrêts automatiques et un détecteur de gaz combustible. L'outil est conçu pour fournir un contrôle fiable des processus avec un temps d'arrêt et de maintenance minimisés. Altus Max propose un choix de modules de post-commercialisation, dont une solution robotique en option pour améliorer l'efficacité et la redondance, une jauge d'ionisation pour le contrôle des processus en temps réel et une grande chambre pour les petites tailles de fonctionnalités. Il est également disponible avec une variété de configurations de sources et de substrats, y compris des systèmes à chambre unique et multi-chambres, pour répondre à des besoins spécifiques d'applications. RECHERCHE LAM Altus Max est également conçu avec une architecture modulaire qui va d'une chambre unique à un actif à quatre chambres. Grâce à son logiciel intégré, le modèle assure un contrôle rapide, précis et stable des paramètres du processus, ce qui est essentiel pour obtenir des performances cohérentes du produit. Le logiciel intégré permet également l'enregistrement des données, l'optimisation des processus et des recettes automatisées. Dans l'ensemble, Altus Max est un réacteur PECVD fiable et convivial conçu pour des applications de dépôt de matériaux avancés de haut niveau. Sa conception avancée des sources, le contrôle rapide des processus, les logiciels automatisés intégrés et une large gamme de modules de marché secondaire en font un choix idéal pour de nombreuses industries.