Occasion LAM RESEARCH Altus #293814196 à vendre en France

LAM RESEARCH Altus
Fabricant
LAM RESEARCH
Modèle
Altus
ID: 293814196
PVD System.
LAM RESEARCH Altus est un réacteur innovant conçu pour des performances optimales dans les processus de gravure et de dépôt. Il offre un meilleur contrôle de la température et de la pression pour un dépôt précis des matériaux et une uniformité du substrat. En outre, sa plate-forme technologique polyvalente permet l'intégration de technologies avancées de gravure et de dépôt pour fournir la meilleure combinaison pour un processus donné. Altus dispose d'un réacteur compact, entièrement fermé, capable de supporter de nombreuses recettes de gravure et de dépôt. Il offre un codage sans turbulence, une pression interne et des taux de gravure et de dépôt supérieurs grâce à une grande précision et répétabilité. Le réacteur est conçu avec une armoire étanche adaptée aux robots et des fonctions intégrées de contrôle des processus qui facilitent le déploiement et l'intégration. RECHERCHE LAM Altus est polyvalent et fiable, avec trois chambres distinctes qui peuvent être installées pour effectuer la gravure sèche, la gravure humide, et le dépôt de couche atomique (ALD). La conception de la chambre augmente la flexibilité du procédé, permettant le dépôt de plusieurs matériaux différents sans requalification. Le logiciel de traitement adaptatif exécute des algorithmes de traitement prédéfinis et propriétaires qui augmentent la productivité, réduisent le temps de cycle et assurent une meilleure performance du processus. Le système de contrôle du réacteur dispose d'une haute précision de température et de contrôles de pression qui résistent aux surprises de pression et fournissent un processus uniforme et reproductible. De plus, Altus utilise une base de données de processus centralisée pour gérer les informations enregistrées pendant l'opération et stocker les recettes. Le logiciel intégré peut être configuré pour envoyer directement des alarmes système à l'opérateur par e-mail pour tout événement de processus significatif. LAM RESEARCH Altus est un réacteur de gravure et de dépôt de pointe conçu pour fournir les performances, la précision et la reproductibilité les plus élevées pour divers processus de gravure et de dépôt. Le système polyvalent de contrôle des processus offre une répétabilité supérieure et élimine le besoin de requalification des processus. Avec la base de données intégrée pour la gestion des recettes et les fonctions intégrées de contrôle des processus, Altus offre une efficacité maximale avec une productivité accrue.
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