Occasion LAM RESEARCH Altus #293818161 à vendre en France

LAM RESEARCH Altus est un réacteur à haut rendement conçu pour une uniformité de qualité dans le dépôt de couches minces. Il dispose d'une conception de plate-forme auto-mécanique qui optimise la distribution des gravures et des gaz, obtenant des résultats reproductibles. Altus est conçu pour être modulaire, permettant l'ajout de modules supplémentaires en fonction des besoins de production de l'application. Il dispose également d'un bras robot intégré pour le chargement/déchargement précis et précis des substrats. RECHERCHE LAM Le réacteur Altus est capable d'un large éventail de procédés, y compris des procédés thermiques et plasmatiques tels que le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), le CVD amélioré par plasma (PECVD), le dépôt physique en phase vapeur (PVD), le dépôt physique en phase vapeur (PVPD) et le dépôt électrochimique (ECD). Sa conception et ses caractéristiques uniques lui permettent d'assurer une grande précision et uniformité dans la gravure des substrats. Le réacteur Altus dispose d'un large éventail de paramètres qui peuvent être ajustés pour répondre à différents besoins de processus. Il utilise des logiciels sophistiqués pour contrôler avec précision les paramètres de fonctionnement de chaque processus. Il comprend également un équipement de sécurité embarqué pour protéger l'utilisateur des dangers potentiels. Le réacteur est constitué d'une section d'anode et d'une section de cathode. La section d'anode est constituée d'une plaque électriquement conductrice qui contient des précurseurs chimiques pour le dépôt. La section cathodique contient des électrodes qui génèrent une source de plasma qui bombarde la section anodique pour amorcer le processus de dépôt. RECHERCHE LAM Le réacteur Altus comprend également un système de livraison chimique et une unité de réaction rapide. La machine de livraison chimique fournit les gaz réactifs corrects pour le processus tandis que l'outil de réaction rapide augmente la vitesse du processus. Ensemble, ces systèmes permettent un débit plus élevé et des temps de cycle plus courts. Enfin, le réacteur Altus est également conçu avec des capacités de surveillance in situ, ce qui lui permet de surveiller toute modification de la chimie ou des paramètres de réaction, ce qui lui permet de compenser en conséquence. Cette caractéristique permet de s'assurer que le processus est maintenu aux tolérances les plus strictes, assurant une uniformité et une répétabilité de haute qualité.