Occasion LAM RESEARCH Altus #9163188 à vendre en France

LAM RESEARCH Altus est un équipement de réacteur compact de pointe conçu pour une variété de besoins modernes de traitement des semi-conducteurs. En particulier, Altus est idéal pour les applications de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) à haut volume, épitaxie et basse pression. RECHERCHE LAM Le réacteur Altus est conçu pour traiter des débits massifs avec une large gamme de régulateurs de température précis et des capacités de temps de réaction précises. Sa conception est basée sur un tube à quartz haute pureté fermé avec un élément chauffant à résistance coupée, un alimentateur de poudre entièrement programmable et configurable, et un contrôle précis des réactifs via des régulateurs de débit massique intégrés et des vannes. Avec un contrôle précis de la température, un vide de haute pureté et un contrôle précis des réactifs, le système réactionnel Altus est capable de fournir des résultats très précis et reproductibles. RECHERCHE LAM L'unité de réacteur Altus obtient une grande précision dans un large éventail de conditions de procédé grâce à sa conception thermique avancée qui comprend des capabilités de chauffage variables de bout en bout, plusieurs points de réfrigération à quartz de haute pureté et plusieurs couches métalliques de protection. Le contrôle de température avancé permet un passage rapide entre les différentes recettes et les exigences du procédé, tout en offrant une excellente uniformité de température dans toute la machine. L'outil est également livré avec contrôle de pression automatisé pour assurer des réponses précises de l'actif. Ceci, combiné avec le contrôle du réactif entièrement programmable, permet des résultats répétables avec des variations minimes. Le modèle de réacteur Altus est extrêmement polyvalent et peut être intégré avec une variété d'autres composants pour un équipement CVD complet. Le système est compatible avec de multiples gaz, produits chimiques et matériaux, et peut être configuré pour traiter des opérations verticales ou parallèles. Le réacteur offre également des outils de métrologie intégrés pour la surveillance des procédés, le dimensionnement des particules et la caractérisation des surfaces, ainsi que des contrôles personnalisables pour automatiser et optimiser les opérations de traitement. Pour assurer un fonctionnement sûr et fiable, l'unité réacteur LAM RESEARCH Altus est construite avec de l'acier inoxydable de haute qualité et des métaux exotiques, assurant une intégrité structurelle maximale. La machine est également soutenue par une panoplie de dispositifs de sécurité, tels que le remplissage et la purge du gaz inerte, la protection contre les températures excessives et la protection à haute tension. L'outil est également approuvé par l'ATEX et est conforme aux règlements établis par IEC6116 et d'autres lignes directrices internationales. Dans l'ensemble, l'actif du réacteur Altus est une plate-forme avancée et performante pour les dépôts CVD et épitaxiaux, offrant une précision et une répétabilité inégalées dans diverses conditions de procédé. Avec elle, les utilisateurs sont en mesure d'obtenir un excellent contrôle tout au long de leurs tâches de traitement, assurant une cohérence uniforme avec chaque lot de produit.