Occasion LAM RESEARCH C3 Altus Ice Mod #293646584 à vendre en France

LAM RESEARCH C3 Altus Ice Mod est un réacteur à plasma conçu pour faciliter le dépôt de couches minces sur des substrats. C'est un équipement révolutionnaire qui utilise un générateur de plasma haute fréquence (RF) et un système de vide puissant qui permet un environnement bien adapté à la formation de films minces. Il est bien adapté pour le dépôt de matériaux tels que le nitrure de silicium, le dioxyde de silicium ou d'autres films similaires. C3 Altus Ice Mod utilise une puissante source d'énergie à base d'onduleurs pour activer le gaz de procédé. Ce gaz est introduit par l'intermédiaire d'une unité de contrôle de gaz qui le pulvérise et le réagit, entraînant également la génération d'un plasma. Ce plasma est ensuite transporté dans la chambre de dépôt où il traverse une région de domination du plasma avant d'arriver au substrat. Pour assurer un dépôt optimal, le gaz plasmatique est rapidement pulsé, permettant une répartition uniforme sur la surface du substrat. De plus, l'Altus ICE Mod offre une plage de fonctionnement de 0-4000Hz qui permet une refusion optimale, augmentant la vitesse de dépôt des matériaux et améliorant l'uniformité de la surface. Cette caractéristique permet de réduire le coût de l'ensemble du processus de dépôt. L'Altus ICE Mod dispose également d'une optique à double chambre, permettant à l'utilisateur de surveiller à la fois le dépôt et le processus plasmatique. Cela leur permet de cerner les problèmes qui pourraient survenir au cours du processus de dépôt et de prendre les mesures correctives appropriées. En outre, la machine dispose également d'un outil de pompage intégré qui surveille la pression dans la chambre de dépôt, ce qui permet de s'assurer que le procédé respecte les repères optimaux. Dans l'ensemble, LAM RESEARCH C3 Altus Ice Mod est un atout hautement avancé pour les réacteurs à plasma qui dispose de la technologie de génération de plasma RF la plus récente, permettant à l'utilisateur de déposer efficacement des films minces de haute qualité sur une variété de substrats. Il offre des vitesses et une puissance de fonctionnement élevées, en plus de l'optique à double chambre pour un dépôt optimal des matériaux et un contrôle de la pompe pour une pression optimisée.