Occasion LAM RESEARCH DSM 9900 #293587928 à vendre en France

LAM RESEARCH DSM 9900 est un réacteur de gravure à plasma avancé utilisé pour le traitement de divers matériaux tels que le silicium, le polyimide, le verre et même certains métaux. L'unité est construite en utilisant des composants de haute qualité et des techniques de fabrication pour assurer des capacités de génération de plasma élevées et un fonctionnement reproductible et fiable. Avec ses capacités chimiques uniques, LAM RESEARCH 9900 est capable de graver un large éventail de structures avec architecture et micro-topographie. LAM RESEARCH 9900 est un réacteur de gravure proportionnelle de type « source-drain », utilisant des systèmes sécurisés de contrôle en boucle fermée et un refroidissement cryogénique pour permettre une gravure plasma efficace et rapide de tous les matériaux. L'unité est conçue pour fonctionner en mode basse ou haute fréquence, offrant flexibilité et précision pendant le processus de gravure. L'alimentation électrique, la chambre du réacteur et les composants du procédé tels que les gaz inertes, les espèces de gravures et les dopants sont tous contrôlés et optimisés indépendamment pour assurer un traitement précis et reproductible. Le réacteur DSM 9900 est un équipement de gravure polyvalent qui permet le traitement de différents substrats et matériaux avec une large gamme de géométries. Le système comprend un système sophistiqué de contrôle des gaz, des ports de pompage en céramique et des composants monolithiques de manutention des plaquettes pour assurer le plus haut niveau de stabilité et d'uniformité. L'unité offre également une machine de surveillance avancée avec diagnostic automatique, ce qui garantit des résultats optimaux. Le réacteur LAM RESEARCH DSM 9900 a été développé pour des clients qui ont besoin du rendement et du débit les plus élevés pour des matériaux durs tels que le silicium, le cuivre et même l'or. Cet outil de qualité industrielle assure un contrôle et une surveillance complets de toutes les variables de processus, assurant le rendement et la précision les plus élevés. La vaste gamme de fonctions disponibles et les multiples modes de fonctionnement de l'actif en font la solution idéale pour toute application de gravure, de base à complexe. En outre, le modèle est compatible avec une variété d'équipements périphériques et peut être intégré dans une plus grande ligne de processus.