Occasion LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus extremefill #293625748 à vendre en France

LAM RESEARCH/NOVELLUS Le réacteur Altus extremefill est un procédé avancé de gravure de plasma pour la création de structures source/drain utilisées dans la fabrication de transistors ultra-rétrécis et de MOSFET. Le réacteur utilise une combinaison de gaz tels que l' CF4, l' CHF3 et l'hélium et utilise l'argon comme agent de pré-nettoyage pour graver les métaux. Ce mélange de gaz et de l'agent de pré-nettoyage de l'argon forme un environnement de gravure isotrope qui permet un contrôle serré du profil des ailettes sur une large plage de température. Le réacteur utilise du plasma à haute densité pour obtenir des performances de gravure supérieures et un débit accru. Ceci est réalisé en fournissant une densité de plasma élevée avec une uniformité de gravure supérieure. Le réacteur NOVELLUS Altus profite également d'un équipement unique de livraison de gaz pour assurer une distribution uniforme du gaz dans toute la chambre de gravure. Cette fonctionnalité, en combinaison avec le logiciel NOVELLUS Advanced Process Control, permet un contrôle précis du processus de gravure. RECHERCHE LAM Le réacteur Altus extremefill dispose également de la technologie de source/drain miniature (MDT). Cette technologie permet la création de structures Source/Drain avec des profondeurs de ½ à 8 microns, fournissant un profil d'ailettes plus étroitement contrôlé avec un contrôle de profondeur supérieur et un meilleur rendement énergétique. Cette technologie permet également une uniformité accrue des dispositifs en éliminant les points chauds dans les structures source/drain. Le réacteur Altus extremefill offre également un contrôle des procédés de pointe grâce à son système intégré de supervision et de contrôle des procédés intelligents numériques (DIPC). Cette unité assure une surveillance avancée, un diagnostic et un réglage afin d'assurer une performance optimale. La machine aide également à réduire les temps de cycle du produit et améliore le rendement et la répétabilité du processus. En conclusion, LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus extremefill reactor est un procédé avancé de gravure de plasma pour la création de transistors ultra-rétrécis et de MOSFET. Il utilise un plasma haute densité pour offrir des performances de gravure supérieures et un débit accru, tout en offrant des fonctions de contrôle de processus de pointe telles que la technologie de source/drain miniature et la supervision intelligente numérique et le contrôle de processus.