Occasion LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus #293754401 à vendre en France

LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus est un équipement de nouvelle génération de dépôt physique en phase vapeur (PVD) conçu pour le dépôt avancé de couches minces sur des substrats utilisés dans des applications semi-conductrices de haute performance. NOVELLUS Altus dispose d'une architecture de chambre à vide avancée conçue pour offrir des performances supérieures au flux de chambre élevé et est idéal pour les couches de film avancées, permettant des vitesses de dépôt plus rapides et un meilleur débit. Le système combine un débit élevé et un faible coût de possession avec de faibles exigences d'entretien. LAM RESEARCH Altus utilise la technologie de double réacteur breveté NOVELLUS « All-Around » qui permet de déposer deux sources simultanément. La combinaison de deux sources permet un taux de dépôt plus rapide qu'une seule source, tout en augmentant l'uniformité. Le réacteur double permet également à l'utilisateur de basculer entre le dépôt sur la surface supérieure et la surface inférieure du substrat sans avoir à changer le propriétaire du produit ou attendre la remise sous pression. Altus utilise la machine de contrôle de film avancée de LAM, qui fournit un contrôle intégré de la température, de la pression et du vide, permettant à l'utilisateur de contrôler avec précision une variété de variables lors du dépôt de matériaux en couches minces. Cet outil de contrôle offre également un excellent contrôle de l'uniformité des dépôts, de la vitesse de rejet et de la rugosité racine-moyenne-carrée (RMS). LAM RESEARCH/NOVELLUS Atout de transfert de substrat Altus fournit un débit élevé tout en minimisant la production de particules et la contamination. Il fournit également des flips de substrat répétables, automatisés, compatibles avec le vide, permettant des changements rapides de produit. NOVELLUS Altus dispose de plusieurs systèmes de sécurité avancés, dont un modèle anti-incendie aspirateur et de grande capacité, ainsi qu'une surveillance et un contrôle avancés des armoires électriques. Ce contrôle d'armoire permet également à l'utilisateur de surveiller et de restaurer facilement la santé de l'équipement en cas de pannes ou d'autres perturbations du système. En conclusion, LAM RESEARCH Altus est conçu pour une fiabilité maximale des processus et des performances supérieures dans les applications PVD critiques pour les applications, ce qui permet des économies importantes. Altus est un choix idéal pour le dépôt de PVD haute performance pour les applications prototypes et de production.