Occasion LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus #9241282 à vendre en France

LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus est un réacteur de dépôt avancé utilisé dans le processus de fabrication des semi-conducteurs. C'est un système à chambre unique conçu pour un débit élevé et des films précis. Le réacteur est conçu pour le dépôt de diélectriques, de métaux et d'autres matériaux. Le réacteur NOVELLUS Altus utilise une technique de résonance cyclotron électronique (ECR) pour créer son plasma, qui permet une gravure à haute température dans un environnement plus contrôlé. L'altitude du plasma assure que les réactifs sont exposés à des niveaux élevés d'énergie, et la chambre utilise un fonctionnement multimode unique qui peut gérer le traitement à basse et haute température. La conception à chambre unique permet également de plus petites tailles de plaquettes, telles que celles utilisées dans les applications photoniques. Il est capable de réaliser des revêtements ultracléaires très homogènes et très homogènes à travers la plaquette. La température de la plaquette peut être ajustée pendant le processus de dépôt, ce qui permet un meilleur contrôle du résultat final. RECHERCHE LAM Le réacteur Altus utilise également un contrôle intelligent du procédé, qui permet à l'utilisateur de surveiller et de contrôler les paramètres du procédé tout au long du processus de dépôt. Ce procédé permet d'optimiser le dépôt et d'assurer une homogénéité optimale du film sur la plaquette. Le contrôle intelligent du processus garantit également que le processus est entièrement répétable, avec des films uniformes. Altus est un choix idéal pour tous ceux qui recherchent un système de dépôt avancé qui offre une précision et une répétabilité élevées. Sa conception à chambre unique lui permet de gérer les processus à basse et haute température, et son contrôle intelligent des processus permet un meilleur contrôle de l'uniformité. Sa capacité à manipuler de petites tailles de plaquettes le rend particulièrement bien adapté aux applications photoniques.