Occasion LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus #9255626 à vendre en France

LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus est un type de réacteur PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). C'est un outil utilisé pour déposer des couches minces sur un substrat de l'industrie des semi-conducteurs. Il est idéal pour les applications nécessitant des temps de traitement rapides avec dépôt à basse température. L'équipement NOVELLUS Altus utilise un plasma RF transversal pour déposer un film mince du matériau désiré sur le substrat. Le système fonctionne en introduisant un gaz réactif dans sa chambre de traitement. Après avoir traversé une série de filtres d'échappement, le gaz est soumis à un bombardement électronique qui le fait se décomposer en atomes réactifs et en molécules. Les parois cellulaires de la chambre sont garnies d'électrodes très conductrices qui génèrent un champ RF actif. Ceci permet des micro-rejets plasmatiques doux sur la longueur et la largeur de la chambre, créant des espèces réactives à haute énergie qui réagissent avec le gaz de dépôt entrant. Le film de dépôt produit par l'unité de LAM RESEARCH Altus est uniforme et anhydre, avec une faible contrainte et une excellente adhérence. Il est capable de déposer des couches minces diélectriques, conductrices, métalliques ou antimicrobiennes sur divers substrats. La machine a intégré la surveillance de la température et de la pression, avec la capacité de surveiller l'épaisseur du film de dépôt in situ. Cela garantit l'uniformité et la répétabilité dans le traitement. L'outil dispose également d'un temps de montée rapide, la génération de plasma à basse température, et des temps de traitement réduits. La chambre est capable d'atteindre des températures allant jusqu'à 450 ° C et des temps de réaction jusqu'à quelques secondes. Il est équipé d'un logiciel de gestion d'outils et de recettes pour la télécommande et la surveillance, ainsi que d'une capacité de profilage de concentration pour l'optimisation et l'automatisation. L'actif du réacteur Altus est largement utilisé pour diverses applications allant de l'emballage avancé aux dispositifs MEMS, en passant par l'intégration de circuits avancés. Ceci en fait un excellent substrat pour l'industrie des semi-conducteurs. Sa capacité de dépôt à basse température le rend idéal pour la mise en oeuvre et la planarisation de procédés tels que le traitement de structures MEMS, où des températures plus élevées peuvent causer des dommages thermiques. Le réacteur LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus est également facilement modifié pour différentes exigences de dépôt. Ses capacités de personnalisation le rendent adapté à un large éventail d'applications. Du dépôt d'isolants pour amplificateurs de puissance au dépôt de couches protectrices pour systèmes microfluidiques, le réacteur NOVELLUS Altus est un outil polyvalent pour le dépôt de semi-conducteurs.