Occasion LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus #9261404 à vendre en France

LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus est un réacteur utilisé pour le dépôt de matériaux sur des substrats semi-conducteurs dans l'industrie de la microélectronique. Il fournit des procédés efficaces pour déposer des couches de matériaux, tels que l'oxyde de grille, la résine photosensible, les polyimides et le nitrure de silicium riche en azote, sur des substrats semi-conducteurs. Le réacteur NOVELLUS Altus utilise un large éventail de technologies pour déposer ces couches, telles que le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), le CVD basse pression (LPCVD), le dépôt physique en phase vapeur (PVD) et la résonance cyclotron électronique (ECR). Le procédé CVD fait intervenir des précurseurs de gaz qui réagissent à des températures élevées pour former des couches minces uniformes à la surface d'un substrat. Le procédé LPCVD est une variation à basse température de CVD et est couramment utilisé pour les oxydes de grille épais ou hi-k. Le procédé PVD consiste en un dépôt énergétique de matière sur la plaquette à partir d'un matériau source sous la forme d'une cible de pulvérisation, et se fait typiquement à basse pression. Enfin, l'ECR implique l'utilisation d'une source de micro-ondes pour ioniser les gaz de procédé, créant du plasma qui est ensuite utilisé pour déposer la couche sur le substrat. LAM RESEARCH Le réacteur Altus est construit avec une interface utilisateur qui offre un accès continu à ses caractéristiques et paramètres, ce qui facilite la personnalisation des recettes de dépôt et des paramètres de traitement pour chaque couche. Le réacteur a également une capacité multi-zones, permettant jusqu'à huit procédés de dépôt différents de fonctionner simultanément, avec jusqu'à quatre substrats différents par zone. De plus, la source de vide est conçue pour maintenir la pression de base autour de la chambre de procédé et fournir une pompe rapide temps d'arrêt pour améliorer la productivité. Le réacteur Altus est un excellent choix pour le dépôt de matériaux sur des substrats semi-conducteurs, car il offre à l'utilisateur une multitude d'options de personnalisation et d'automatisation pour obtenir des résultats fiables et uniformes. Sa capacité multi-zones et le temps d'arrêt rapide de la pompe augmentent encore l'efficacité du processus, et son interface conviviale facilite la configuration du réacteur pour des résultats optimaux.