Occasion LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus #9261411 à vendre en France

LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus est un équipement de réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (PECVD) à haute performance, utilisé pour le dépôt de films d'oxyde à basse température et de nitrure à haute température. Il permet le dépôt de couches à l'échelle des microns et des sous-microns de diverses épaisseurs et densités avec une excellente uniformité sur de grandes tailles de plaquettes. Le système est basé sur le procédé standard LAMNOVELLUS PECVD, qui est un procédé impulsionnel à haute fréquence et à haut cycle, configuré pour des débits élevés avec des temps de dépôt à l'échelle milliseconde pour les films d'oxyde et sous-milliseconde pour les films de nitrure. Le réacteur NOVELLUS Altus améliore ce procédé grâce à sa technologie de dépôt chimique en phase vapeur (décollage) renforcée par plasma. Cette unité utilise un régime multi-impulsions unique pour produire une réaction répétable renforcée par plasma de réactifs fournis par la chambre, ce qui donne des films avec une excellente uniformité et une excellente conformité. RECHERCHE LAM Le réacteur Altus dispose également de caractéristiques d'isolation plasma avancée exclusives pour maintenir une fenêtre de processus stable sur une large gamme de substrats. Ces nouveaux systèmes d'isolement contribuent à réduire les réactions de ruissellement et à éliminer les variations de température entre les plaquettes, ce qui améliore l'uniformité de l'épaisseur du film et réduit les excursions de processus. La conception modulaire de la machine permet aux utilisateurs de changer rapidement entre les modes oxyde et nitrure et d'ajuster les débits de gaz et les paramètres impulsionnels pour modifier les caractéristiques du film. L'outil Altus très polyvalent intègre également un certain nombre d'options pour la surveillance avancée des dépôts, y compris la réflectance sans contact et la réflectance laser en écriture directe. LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus est livré avec un actif de gestion de l'environnement contrôlé par ordinateur pour assurer la qualité et la cohérence du processus. Le bruit basse fréquence est minimisé grâce aux systèmes d'isolement avancés, et l'interface opérateur rend le fonctionnement du modèle simple et efficace. L'équipement peut être utilisé pour un large éventail d'applications, du MEMS aux écrans plats, et convient à la fois pour les applications d'outils et de recherche.