Occasion LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus #9261430 à vendre en France

LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus est un réacteur atome source de dépôt en phase vapeur (PVD). L'équipement est conçu pour assurer un contrôle précis de la vitesse de dépôt du film, de la température, de la pression et d'autres conditions de procédé, assurant ainsi un revêtement uniforme et précis sur le matériau du substrat. Il est équipé d'une source d'ions de faible puissance et de haute densité, permettant le dépôt précis de couches de couches minces sur des substrats. Le système comprend une source d'ions haute résolution, une chambre de traitement du plasma qui est utilisée pour réunir le plasma et le substrat, ainsi que des alimentations électriques qui contrôlent les conditions de traitement. La source à haute résolution est capable de produire une densité de courant élevée, permettant un dépôt contrôlé et uniforme de couches minces. La chambre de traitement du plasma, qui est le cœur de l'unité, permet la génération d'un plasma de faible puissance et de haute densité. Ce plasma est nécessaire pour le dépôt précis de couches minces à basse température, d'où une faible consommation de matière et de meilleures propriétés électriques, optiques et mécaniques. La machine comprend également plusieurs composants technologiques tels qu'un anneau de maintien de substrat, un réchauffeur, une section de refroidissement et une unité de préformage pilotée par ions. L'anneau de maintien du substrat facilite le positionnement et le prétraitement du matériau du substrat avant le début du processus PVD. La section chauffée de l'outil se déplace rapidement et accélère le processus de dépôt du film, tandis que la section de refroidissement contribue à maintenir une température uniforme tout au long du dépôt de PVD. De plus, l'unité de préformage, située entre l'anneau de maintien du substrat et la chambre PVD, permet de créer des couches précises avec l'épaisseur et la composition souhaitées. L'actif peut traiter de nombreux matériaux de substrat différents tels que l'aluminium, le cuivre, le silicium et le verre. De plus, le modèle est capable de déposer de nombreux types différents de matériaux dont le chrome, l'aluminium, le titane et le tungstène. L'équipement PVD de NOVELLUS Altus est essentiel pour créer des couches minces précises, uniformes et appropriées pour les composants critiques des appareils utilisés dans l'électronique de pointe d'aujourd'hui. Le dépôt précis des matériaux sur les substrats garantit des pièces et des produits de qualité, garantissant des performances fiables et efficaces. Avec une abondance de composants technologiques, le système est parfaitement adapté pour réaliser des films précis dans une large gamme de températures et de conditions de processus.