Occasion LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus #9315037 à vendre en France
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ID: 9315037
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2003
Metal CVD system, 12"
2003 vintage.
LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus est un réacteur à vide thermique avancé conçu pour l'application de films diélectriques. Il se compose d'une chambre à vide, d'une source de rayonnement, d'un régulateur de pression de chambre, de chauffages, de régulateurs de débit massique et d'un équipement de distribution de gaz. La chambre à vide offre un environnement propre pour les processus de dépôt et de post-dépôt. La source de rayonnement crée les conditions nécessaires au processus de dépôt, tandis que le régulateur de pression de chambre régule la pression à l'intérieur de la chambre. Les chauffages assurent le maintien de la température pendant le processus de dépôt et les régulateurs de débit massique mesurent la pression pour assurer l'utilisation efficace des gaz. Le système de distribution de gaz distribue de l'azote et de l'hydrogène dans toute la chambre pour un processus uniforme. L'unité surveille également le processus de purge de la chambre pour assurer un dépôt réussi. NOVELLUS Altus utilise le temps de cycle et l'optimisation par le biais de multiples recettes et programmes. Il offre une reproductibilité élevée dans une solution économique pour le dépôt de films diélectriques. La machine est conçue pour le dépôt de couches minces luminescentes de haute qualité tout en minimisant la contamination et les défauts. En outre, le contrôleur de processus optionnel de l'outil offre le contrôle de processus basé sur le logiciel et la gestion des données. LAM RESEARCH Altus est un atout fiable, robuste et convivial qui fournit un dépôt sous vide thermique avancé pour de multiples applications.
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