Occasion LAM RESEARCH / NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel #9251470 à vendre en France

Le réacteur LAM RESEARCH/NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel (DSS) est une technologie industriellement éprouvée conçue pour la fabrication de gravures de plasma, de dépôts chimiques en phase vapeur et de dépôts physiques en phase vapeur. Le réacteur DSS est un équipement polyvalent, combinant les meilleures caractéristiques des technologies LAM et NOVELLUS en une plate-forme unique capable d'effectuer tous les processus de dépôt et de gravure. Le DSS offre une grande chambre de gravure avec une excellente uniformité, un débit élevé et une flexibilité en chimie des gaz. Le réacteur NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel a été conçu pour offrir des performances et un contrôle exceptionnels de gravure de plasma. Le processus de gravure est très reproductible et uniforme, conduisant à des caractéristiques de précision et un profilage cible étroit. Le système avancé de gravure de plasma offre un débit élevé et de faibles niveaux de contamination, permettant des rendements plus élevés et un délai de commercialisation plus rapide. Le DSS comprend également une unité de dépôt chimique en phase vapeur (CVD), qui sert à déposer des couches minces de matériaux tels que le silicium, le dioxyde de silicium et des composés métalliques pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. La machine CVD est capable de fonctionner à haute température, permettant le dépôt d'équipe de matériaux durs tels que la silice et le carbone diamant. L'outil offre une homogénéité supérieure et une contamination réduite pour des rendements élevés. De plus, le réacteur LAM RESEARCH Concept 2 Dual Speed Sequel offre le procédé de dépôt physique en phase vapeur (PVD). Le PVD peut être utilisé pour le dépôt de couches métalliques minces pour les métaux de contact, les interconnexions métalliques et d'autres composants électriques. L'actif PVD est très fiable et reproductible, offrant une excellente uniformité d'adhésion et de dépôt avec une production minimale de particules. Concept 2 Le réacteur Dual Speed Sequel offre un ensemble de fonctionnalités impressionnantes, y compris une chimie du gaz avancée, une faible contamination, un débit élevé, des capacités de contrôle de pointe, et une variété de processus différents dans une plate-forme unique. Ces caractéristiques font du modèle un choix idéal pour les semi-conducteurs et autres procédés de fabrication de dispositifs à couches minces.