Occasion LAM RESEARCH / NOVELLUS Concept 2 Dual Speed #293819862 à vendre en France

NOVELLUS CONCEPT 2 Dual Speed Reactor est une solution performante pour les applications de gravure, de dépôt et de traitement thermique. Il est conçu avec deux processus indépendants dans une seule chambre, permettant aux utilisateurs de créer une variété de micro-structures et de matériaux. Le réacteur à deux vitesses est capable de fonctionner à deux vitesses et peut atteindre des températures élevées, jusqu'à 1400 ° C, lorsque les deux gaz sont utilisés. Il offre un traitement thermique rapide et de faibles taux de dépôt barrière, ce qui le rend adapté à une grande variété d'applications de la fabrication de LED aux dispositifs en silicium. Pour certains procédés, on peut utiliser une vitesse de gradient en deux étapes pour augmenter la vitesse de gravure. Le réacteur à double vitesse dispose d'un lit divisé horizontalement qui est chargé de deux cartouches indépendantes. Les réacteurs ont deux injecteurs distincts qui peuvent être remplis de toute combinaison de gaz de procédé - hydrogène, oxygène, azote et argon - selon les besoins du procédé. Les réactifs peuvent être étudiés séparément ou en combinaison pour différentes chimies. Les réacteurs sont conçus pour passer rapidement d'un processus à l'autre, permettant des temps de cycle rapides. Le réacteur à double vitesse offre une puissance élevée et une uniformité de diffusion, ce qui le rend idéal pour la gravure en profondeur, y compris les procédés tels que le dépôt de tungstène. Il convient aux applications courantes de production telles que l'oxydation et le recuit thermiques secs, humides et rapides. Le réacteur peut également être utilisé pour le nettoyage de surface, le remplissage de contact et de vide, le dépôt de cuivre, la fabrication de MEMS et de transistors. Le réacteur à double vitesse est équipé du système APS NOVELLUS, qui permet aux utilisateurs de surveiller et de contrôler facilement la température, la pression, les réactifs et les réglages des recettes. De plus, le module CPXII permet une manipulation automatisée des plaquettes pour des performances rapides et répétables. En outre, le réacteur à double vitesse dispose d'un système de refroidissement avancé qui comprend une cavité hélicoïdale et un distributeur de gaz tournant pour améliorer l'efficacité. Ce système permet d'assurer un processus stable et de maintenir l'uniformité dans un large éventail de conditions de processus. Le réacteur comprend une conception haute performance et peu entretenue avec une interface intuitive et peut être configuré pour répondre à des besoins spécifiques des clients. CONCEPT 2 Dual Speed Reactor est l'un des réacteurs de gravure et de dépôt les plus avancés sur le marché. Avec une vitesse de gradient unique en deux étapes, des températures réglables et deux processus indépendants, il convient à une grande variété d'applications. Il est également doté d'une puissance élevée et d'une homogénéité réactive supérieure, ce qui le rend idéal pour une variété de processus de production.