Occasion LAM RESEARCH / NOVELLUS Concept 2 Sequel #9251473 à vendre en France

LAM RESEARCH/NOVELLUS Concept 2 Sequel est un équipement de haute performance de lithographie au faisceau d'électrons (EBL) qui est utilisé pour créer des motifs nanométriques utilisés dans la fabrication de précision. Le système a la capacité de créer des motifs extrêmement précis qui conviennent à un large éventail de processus, y compris la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, la production de mémoire d'ordinateur, et la fabrication d'affichage. NOVELLUS Concept 2 Suite est basé sur le concept de lithographie de faisceau d'électrons (EBL), qui est un processus où un faisceau d'électrons est utilisé pour modeler précisément sur un substrat. La lithographie est réalisée en appliquant un masque de motif sur le substrat et en déplaçant précisément le faisceau d'électrons aux endroits souhaités du motif. Dans LAM RESEARCH Concept 2 Suite, le faisceau d'électrons est contrôlé numériquement en appliquant le traitement numérique du signal au mouvement du faisceau d'électrons afin de positionner avec précision le faisceau sur l'échantillon. Ce contrôle serré de l'emplacement du faisceau, combiné à la précision de l'optique synchronisée, permet au Concept 2 Sequel d'atteindre une résolution nanométrique. LAM RESEARCH/NOVELLUS Concept 2 Sequel intègre également plusieurs fonctionnalités pour améliorer le débit et la production. Les caractéristiques telles que la source d'électrons et les éléments chauffants, la régulation du courant de faisceau et de l'énergie, ainsi que les systèmes d'interconnexion et de sécurité qui préviennent les accidents dus à une exposition excessive, augmentent avec succès la vitesse à laquelle les modèles souhaités peuvent être produits. NOVELLUS Concept 2 Sequel est également capable de différents temps d'exposition et de contrôle de densité de motifs pour permettre la flexibilité de l'appareil pour répondre à différents types d'applications. Une autre caractéristique clé de la machine est la capacité redondante EBL qui permet de commuter rapidement entre deux « têtes » de faisceau différentes afin de doubler la productivité de l'outil. En outre, l'actif est conçu pour s'adapter à une gamme d'installations de salle blanche, et il peut être facilement intégré avec d'autres systèmes de production afin de maximiser l'efficacité. Dans l'ensemble, LAM RESEARCH Concept 2 Sequel est un modèle EBL très fiable et polyvalent, capable de fabriquer des motifs à l'échelle nanométrique avec précision et précision. C'est un outil essentiel pour toute installation qui nécessite une technologie de haute performance et de haute précision pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et d'autres produits électroniques.