Occasion LAM RESEARCH / NOVELLUS Concept 2 Sequel #9251475 à vendre en France

LAM RESEARCH/NOVELLUS Concept 2 Sequel est un réacteur utilisé pour le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) pour la fabrication de semi-conducteurs. Il se compose de deux composants principaux : la chambre de procédés et le module de télémanipulation (RMM). La chambre de procédé est l'unité principale de traitement, qui est destinée à optimiser le dépôt du matériau désiré sur un substrat. Le RMM est la partie de l'équipement responsable de l'entretien, y compris le nettoyage et l'étalonnage de la chambre de processus. La chambre de procédé comprend une plaque simple, une tête de douche en quartz et une plaque de distribution de gaz. La tête de douche en quartz offre une répartition uniforme des gaz, permettant un dépôt uniforme de matière sur le substrat. La plaque de distribution de gaz permet une alimentation précise des gaz désirés vers le côté source de la chambre de procédé. Ceci permet de contrôler la concentration du gaz source et l'homogénéité de l'atmosphère réactionnelle. NOVELLUS Concept 2 Sequel dispose également de deux systèmes de contrôle d'uniformité différents. Le premier système est l'unité d'uniformité de la température du procédé (PTUS), qui est utilisée pour surveiller et ajuster la température de la chambre de procédé pendant la croissance des CVD. La deuxième machine est l'outil d'homogénéité des gaz (GUS), qui est utilisé pour contrôler la livraison du gaz source et pour obtenir une homogénéité précise des gaz. Le RMM de LAM RESEARCH Concept 2 Sequel comprend une série de fonctions de maintenance automatisées telles que la surveillance des soupapes d'isolement, la gestion du contrôle de la pression et la régulation de la vitesse de la pompe. Ces fonctions de maintenance permettent d'améliorer le contrôle et la fiabilité des processus. Le RMM est également équipé d'une pompe turbo moléculaire intégrée, qui sert à maintenir une faible pression de la chambre de procédé. Le Concept 2 Sequel est disponible en deux tailles différentes, la G2 et la G3. Les deux réacteurs sont conçus pour produire les matériaux de haute qualité nécessaires à l'industrie des semi-conducteurs. Ils disposent également d'automatismes avancés et de systèmes intégrés de distribution de gaz qui permettent un traitement précis et reproductible. LAM RESEARCH/NOVELLUS Concept 2 Sequel peut être utilisé pour diverses applications de CVD telles que l'épitaxie, le dépôt de métaux, d'oxydes et de nitrures.