Occasion LAM RESEARCH / NOVELLUS Concept 3 Altus Max #293618240 à vendre en France
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LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus Vector Reactor (AVR) est un outil de pointe pour le dépôt de couches minces et la gravure de substrats non-socs. Il s'agit d'un réacteur haute capacité et haute performance qui fournit un traitement précis, rapide et hautement reproductible. Il est capable de graver des substrats avec une résolution d'un micron, ce qui permet d'augmenter les densités et de plus petites tailles de caractéristiques. L'AVR utilise un processus automatisé de vide continu basé sur le dépôt physique en phase vapeur (PVD), le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), la gravure induite par faisceau d'électrons (EBID) et le placage électrochimique (ECP). Cette combinaison unique de techniques améliore l'uniformité et le contrôle des processus de dépôt et de gravure des matériaux. La combinaison des procédés PVD et CVD aide à réduire les composés oxydés indésirables, et permet le dépôt de structures multicouches complexes avec une grande uniformité et précision. Le procédé ECP permet le placage électrochimique des matériaux avec une résolution et une vitesse élevées. Ce procédé est couramment utilisé pour les fonctionnalités de niveau de circuit intégré ou de niveau MEM. Enfin, le procédé EBID est utilisé pour la gravure de matériaux avec un contrôle morphologique et une uniformité supérieurs, et permet une grande fiabilité et précision des caractéristiques gravées. L'AVR dispose d'une plate-forme universelle pour la manutention des plaquettes et la livraison des processus, ce qui en fait un outil idéal pour de multiples applications. Il utilise des technologies de vide avancées et des procédés auxiliaires, tels que l'épuration des gaz inertes et réactifs, pour fournir un environnement de processus propre et une contamination plus faible. Le système de manutention de cassettes monobloc permet de placer avec précision plusieurs pièces « dorées » qui sont utilisées pour effectuer le contrôle de processus en temps réel. En outre, l'AVR dispose d'une large gamme de recettes pour faciliter la production de structures sophistiquées avec une gravure précise, une répétabilité précise et un contrôle précis des taux de gravure, de l'uniformité et de la taille des caractéristiques. Dans l'ensemble, l'AVR fournit un processus fiable et précis pour la gravure et le dépôt de couches minces. Sa combinaison de procédés avancés, une manipulation précise des plaquettes et des conceptions de recettes polyvalentes en font un excellent outil pour diverses applications, des MEM au traitement à grande échelle.
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