Occasion LAM RESEARCH / NOVELLUS Concept 3 Vector Sequel #9410421 à vendre en France

LAM RESEARCH/NOVELLUS Concept 3 Vector Sequel est un réacteur de dépôt avancé conçu pour assurer le dépôt précis et efficace de couches minces de matériaux performants. NOVELLUS Concept 3 Vector Sequel est le dernier d'une série de conceptions de réacteurs utilisant la technologie propriétaire Vector Sequel développée par NOVELLUS. Cette technologie repose sur le principe du dépôt en flux vectoriel, selon lequel une combinaison contrôlée de gaz de dépôt, de matériaux de source vaporisés et d'entrée de substrat est utilisée pour créer une couche de matériaux à couches minces très uniformes et précises. La conception mécanique de LAM RESEARCH Concept 3 Vector Sequel est un format modulaire et ouvert qui permet une reconfiguration et une maintenance rapides et faciles. Il dispose d'une chambre de dépôt pour la création de plusieurs chambres de processus et d'une variété d'outils de processus qui peuvent être intégrés à la chambre. Ces outils sont constitués d'un contrôleur de débit massique, d'un interrupteur réactif, d'un collecteur à double réaction et d'un contrôleur PID. Concept 3 Vector Sequel utilise également une interface utilisateur informatique spécialisée (GUI), qui est utilisée pour montrer et contrôler les paramètres de fonctionnement du réacteur. LAM RESEARCH/NOVELLUS Concept 3 Vector Sequel est conçu pour offrir un large éventail de paramètres de processus qui peuvent être utilisés pour personnaliser le processus de dépôt à diverses applications. Cela comprend la capacité de modifier la vitesse de dépôt des matériaux, la température et la pression du procédé, ainsi que la capacité de fixer les temps d'exposition et de séjour pour le dépôt optimal de couches minces. La flexibilité globale du réacteur NOVELLUS Concept 3 Vector Sequel permet le dépôt d'un large éventail de matériaux, y compris des oxydes, des sels et des métaux. LAM RESEARCH Concept 3 Vector Sequel comprend également un certain nombre d'autres fonctionnalités avancées, comme une option à haute température, des options de nettoyage de chambre, et une alimentation en gaz équilibrée avec des analyseurs de gaz in line et in situ pour la surveillance des conditions de processus. Avec sa technologie de dépôt de pointe, ses matériaux haut de gamme et sa flexibilité de procédé, le Concept 3 Vector Sequel est un outil puissant et polyvalent pour le dépôt de couches minces. En conclusion, LAM RESEARCH/NOVELLUS Concept 3 Vector Sequel est un réacteur de dépôt polyvalent qui offre une variété d'options de traitement conçues pour optimiser le dépôt de couches minces. Sa conception modulaire, ses outils de processus avancés et son interface informatique conviviale en font une solution attrayante pour une variété de besoins de dépôt de couches minces. Avec ses performances efficaces, sa large gamme de matériaux et son contrôle de précision, NOVELLUS Concept 3 Vector Sequel est un outil de dépôt idéal pour les environnements de recherche et de production.