Occasion LAM RESEARCH / NOVELLUS Concept 3 Vector #9261722 à vendre en France

LAM RESEARCH/NOVELLUS Concept 3 Vector (C3V) est une technologie industrielle de réacteur à plasma conçue pour produire des ions réactifs de haute qualité pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Cette technologie est capable de produire des ions très énergétiques à des taux de dépôt élevés, permettant une uniformité de dépôt ultra-élevée sur de grandes surfaces. Le réacteur C3V est constitué d'une chambre principale en forme de fer à cheval entourée d'une série de grilles et de canaux circulaires. Au centre de la chambre principale se trouve une cathode annulaire où un champ électrique est appliqué. Les ions sont produits dans ce champ électrique par l'impact d'un gaz neutre, tel que l'argon, sur la cathode. Ces ions sont ensuite dirigés à travers l'une des grilles circulaires et dirigés à travers une série de champs pulsés de résistance et de longueur variables. Cette séquence orchestrée de champs d'impulsions permet au réacteur C3V de générer un faisceau d'ions très énergétique de manière extrêmement uniforme. Afin de maximiser ses performances, le réacteur C3V est équipé d'un système de refroidissement qui aide à éliminer la chaleur générée par le champ électrique, ainsi que d'un système de régulation automatique de la pression qui maintient des conditions de processus uniformes dans toute la chambre. De plus, le C3V dispose de multiples systèmes de détection indépendants qui mesurent l'énergie, les espèces et l'intensité du faisceau d'ions en temps réel, afin d'assurer l'uniformité et la répétabilité des dépôts. Outre ses hautes performances, C3V est facile à entretenir et à utiliser, ce qui en fait un excellent choix pour une large gamme d'applications de fabrication. Le système de contrôle avancé du réacteur permet également une surveillance et un contrôle à distance, et tous les paramètres de fonctionnement peuvent être ajustés pour une performance optimale du procédé. Dans l'ensemble, le C3V fonctionne de manière efficace et fiable, offrant une uniformité des dépôts de grande surface, des rendements et des performances du cycle de vie avec des rendements élevés. Le réacteur C3V est la solution leader de l'industrie pour de nombreux procédés de fabrication de semi-conducteurs.