Occasion LAM RESEARCH / NOVELLUS CONCEPT One-150 #293821999 à vendre en France

ID: 293821999
Taille de la plaquette: 6"
Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) system, 6".
LAM RESEARCH/NOVELLUS CONCEPT One-150 est un réacteur à plusieurs chambres conçu pour le dépôt à haut débit de matériaux à couches minces dans l'industrie des semi-conducteurs. Il dispose de jusqu'à 150 chambres de traitement dans son empreinte 4800 x 2400 mm, fournissant des vitesses de dépôt de pointe de l'industrie, une grande uniformité de processus, et une configuration d'équipement optimisée. Le réacteur NOVELLUS CONCEPT One-150 est basé sur le concept d'une configuration alternée de chambres multiples lumineuses et sombres, avec des chambres sombres servant de chambres tampons et réactives. Les chambres tampons sont utilisées pour maintenir l'uniformité du processus en permettant aux espèces de processus de s'accumuler et de s'écouler uniformément dans la chambre. Les chambres réactives fournissent les espèces réactives supplémentaires nécessaires aux couches de dépôt de film. Le réacteur NOVELLUS dispose de plusieurs capacités de traitement avancées. Ceux-ci comprennent le traitement à haute température jusqu'à 1100 ° C et des gammes de pression jusqu'à 1000 mTorr. Cela donne l'occasion de traiter les matériaux à un rythme plus élevé et un niveau de précision plus élevé. De plus, le système est capable de processus de dépôt de couches minces à haut débit. L'unité comprend également une machine de contrôle intégrée qui permet une configuration rapide, la validation et la gestion des recettes. L'outil de contrôle comprend une interface utilisateur graphique intuitive (UI) pour la configuration rapide des paramètres, ainsi que la gestion détaillée des recettes, le suivi des processus et l'enregistrement des opérateurs. Cela garantit que les paramètres du processus restent cohérents et contrôlés tout au long de la production. En plus de ses capacités de dépôt, le réacteur LAM RESEARCH CONCEPT One-150 offre également une variété d'autres capacités de traitement. Ce réacteur peut également être utilisé pour traiter des plaquettes avec des techniques de gravure chimique humide et d'implantation ionique. De plus, l'atout robot permet un transfert rapide et sûr du substrat, ainsi que les processus d'hébergement, de tri et de positionnement. Enfin, le réacteur CONCEPT One-150 est conçu comme une plate-forme ouverte, offrant aux utilisateurs une intégration facile dans les systèmes d'automatisation en usine. Cela permet d'intégrer le réacteur dans des lignes de production entièrement automatisées avec un minimum de perturbations. Le réacteur LAM RESEARCH/NOVELLUS CONCEPT One-150 est un outil idéal pour le dépôt de couches minces dans l'industrie des semi-conducteurs.
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