Occasion LAM RESEARCH / NOVELLUS CONCEPT ONE #9364618 à vendre en France

LAM RESEARCH/NOVELLUS CONCEPT ONE est un réacteur par lots multizone et haute performance conçu pour répondre à diverses exigences en matière de dépôt de couches minces et de procédés. NOVELLUS CONCEPT ONE est construit sur une plate-forme robuste qui offre une homogénéité répétable et un contrôle précis du débit des matériaux. Il est composé de plusieurs composants intégrés dont une chambre de processus, un robot de transfert de plaquettes et un équipement de contrôle. La chambre de procédé est conçue pour contenir et faire circuler les gaz de procédé dans une zone de réaction étanche afin d'assurer une meilleure uniformité du film. La chambre est en outre équipée d'une porte à charnière supérieure permettant un accès facile pour l'entretien et l'entretien. Le robot de transfert de plaquettes transporte les plaquettes semi-conductrices dans toute la chambre de procédé de manière automatisée afin de minimiser le temps d'exposition aux gaz dangereux tout en assurant un dépôt de film précis sur chaque plaquette. Le système de contrôle est une suite entièrement intégrée de composants logiciels et matériels conçus pour surveiller et contrôler tous les aspects du processus. Il peut être programmé pour ajuster automatiquement les paramètres afin d'optimiser l'uniformité, le débit et la reproductibilité du film. LAM RESEARCH CONCEPT ONE fournit toutes les fonctionnalités nécessaires pour obtenir un dépôt de couches minces de haute qualité et à haut débit. La chambre de procédé est équipée d'une unité de distribution de gaz haute pression qui permet un mélange efficace des gaz de dépôt et une uniformité accrue du film. Il utilise une machine de manutention de plaquettes de style suscepteur chauffé pour réduire la contamination de l'interface et améliorer l'adhérence du substrat. Tous les composants sont intégrés à l'outil de commande qui acclimate automatiquement la température, le débit de gaz et la pression pour chaque couche déposée. Le réacteur en circuit fermé à plusieurs zones permet un contrôle précis des conditions du procédé, permettant ainsi des propriétés de film optimales de la plaquette à la plaquette. En outre, l'actif peut être facilement adapté à d'autres applications de procédé telles que la gravure, la nanostructuration et la fabrication de dispositifs photoniques. CONCEPT ONE offre une solution fiable, conviviale et efficace pour de nombreux procédés de dépôt de couches minces. Ses caractéristiques de pointe, son homogénéité et sa répétabilité en font un choix idéal pour toute entreprise cherchant à externaliser des dépôts de couches minces.