Occasion LAM RESEARCH / NOVELLUS Dual Sequel Shirnk #293808346 à vendre en France

Le réacteur NOVELLUS Dual Sequel Shrink est un équipement de traitement de plaquettes de pointe qui combine l'expertise de LAM RESEARCH Corporation et LAM RESEARCH/NOVELLUS Systems, Inc. Cet outil avancé offre aux fabricants de semi-conducteurs une solution complète pour réduire la taille des fonctionnalités sur les circuits intégrés, permettant la production d'appareils électroniques de nouvelle génération avec des performances et une efficacité accrues. Le réacteur Dual Sequel Shrink est conçu pour relever les défis de la fabrication avancée de semi-conducteurs, y compris la demande continue de dispositifs plus petits et plus complexes. En intégrant les technologies de procédé éprouvées de Lam aux capacités de dépôt et de gravure innovatrices de NOVELLUS, ce système fournit une solution complète pour atteindre les étapes de processus critiques requises pour les nœuds technologiques au-delà de 10nm. Au cœur du réacteur Dual Sequel Shrink se trouve la technologie de dépôt de couche atomique renforcée par plasma (PEALD) de Lam, qui permet un dépôt de film précis et uniforme à l'échelle atomique. Cette technologie est essentielle pour déposer des films diélectriques et métalliques de haute qualité sur la surface de la plaquette, assurant la performance et la fiabilité des dispositifs obtenus. En outre, l'unité dispose LAM RESEARCH technologie avancée de gravure de plasma, qui offre une haute sélectivité de gravure, l'uniformité, et le contrôle de profil pour la fixation de structures complexes sur la plaquette. Cette capacité est cruciale pour définir les caractéristiques critiques des dispositifs semi-conducteurs de dimensions inférieures à 10 nm, tels que les portes logiques, les cellules mémoire et les interconnexions. Le réacteur Dual Sequel Shrink est équipé d'une gamme de chambres de procédés, chacune optimisée pour des étapes spécifiques de dépôt et de gravure dans le processus de fabrication des semi-conducteurs. Ces chambres peuvent être configurées pour traiter différents matériaux et conditions de traitement, permettant à la machine de répondre aux diverses exigences des conceptions avancées de dispositifs. En outre, le réacteur est construit sur une plate-forme modulaire, permettant une intégration facile avec d'autres outils dans le fab et l'évolutivité pour supporter une production à haut volume. L'outil est conçu avec des fonctionnalités avancées d'automatisation et de contrôle, comme la surveillance des processus en temps réel et l'optimisation des recettes, pour assurer des résultats cohérents et reproductibles sur les plaquettes et les lots. Dans l'ensemble, le réacteur LAM RESEARCH/NOVELLUS Dual Sequel Shrink représente un progrès important dans la technologie des procédés semi-conducteurs, offrant aux fabricants de semi-conducteurs une solution complète pour atteindre les étapes critiques requises pour les procédés de pointe. En tirant parti de l'expertise combinée de NOVELLUS et de LAM RESEARCH Systems, cet atout permet la production d'appareils électroniques de nouvelle génération avec une performance, une efficacité et une fonctionnalité accrues, propulsant l'innovation dans l'industrie des semi-conducteurs.