Occasion LAM RESEARCH / NOVELLUS EFX MOD C for Concept 3 Altus #293625749 à vendre en France

LAM RESEARCH/NOVELLUS EFX MOD C pour Concept 3 Altus est un réacteur de gravure polyvalent de haute précision conçu pour la fabrication de semi-conducteurs. Les fonctionnalités avancées de l'EFX Mod C permettent un contrôle efficace et répétable de la chimie de gravure et des paramètres de processus. Il est conçu avec une chambre multi-zones à haut débit et à commande directe, de pointe, afin de minimiser les variations de vitesse de gravure et d'éliminer les piqûres de masque. La chambre multi-zones comporte trois zones longitudinales et deux zones transversales, toutes configurables indépendamment. Un équipement de distribution de gaz à double source, combiné à des niveaux de gaz de maquillage réglables, permet de contrôler et d'ajuster le processus de gravure du plasma. Un mandrin électrostatique distribué crée un champ uniforme tout au long de l'extrémité pour assurer une gravure uniforme. L'EFX Mod C est conçu avec un système de distribution de puissance qui permet une plus grande flexibilité et un meilleur contrôle du processus. Ceci est réalisé par une méthode brevetée de commutation de fréquence, qui permet de contrôler et de gérer la variabilité de vitesse de gravure. La chambre est également conçue avec une unité de refroidissement avancée, ce qui permet l'utilisation de procédés de gravure à haute température avec une dégradation thermique minimale du substrat. En contrôlant soigneusement la pression, le débit et la température du gaz de refroidissement, les substrats d'aluminium restent inchangés et le silicium reste uniformément conditionné. L'EFX Mod C appuie l'utilisation de chimiographies de gravure à base de chlore et de fluor. En permettant à l'utilisateur de contrôler les niveaux de chimie relatifs et les taux de gravure, l'EFX Mod C permet de contrôler et de surveiller un large éventail de paramètres de processus. L'EFX Mod C est un outil puissant pour contrôler des processus de gravure précis dans l'industrie avancée de fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Avec sa machine de distribution de gaz à double source, ses niveaux de gaz de maquillage réglables, son mandrin électrostatique distribué et son outil de refroidissement avancé, il offre aux utilisateurs le contrôle et la prévisibilité nécessaires pour produire des résultats de haute qualité. L'EFX Mod C a gagné sa place en tant que réacteur de gravure leader dans l'industrie, offrant aux utilisateurs une meilleure précision de vitesse de gravure, une réduction des dommages thermiques et une plus grande flexibilité de procédé.