Occasion LAM RESEARCH / NOVELLUS SABRE XT #293773353 à vendre en France

Le réacteur LAM RESEARCH/NOVELLUS SABRE XT est un équipement très avancé et complexe utilisé dans le processus de fabrication des semi-conducteurs. Ce réacteur, également appelé graveur à plasma, est spécifiquement conçu pour des applications avancées de gravure dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Le réacteur NOVELLUS SABRE XT est le fruit de la fusion entre NOVELLUS et LAM RESEARCH Systems, deux grandes entreprises du secteur des équipements semi-conducteurs. Au cœur du réacteur LAM RESEARCH SABRE XT se trouve sa technologie de traitement du plasma, indispensable pour graver des motifs précis sur des plaquettes semi-conductrices. La gravure plasma est une étape clé du processus de fabrication des semi-conducteurs, permettant la création de caractéristiques complexes sur la surface de la plaquette avec une grande précision et précision. Le réacteur SABRE XT est équipé de mécanismes avancés de génération et de contrôle du plasma pour obtenir une gravure uniforme et contrôlée des matériaux semi-conducteurs. Une des caractéristiques clés du réacteur LAM RESEARCH/NOVELLUS SABRE XT est sa capacité à effectuer une gravure profonde du silicium, un processus critique dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs avancés. La gravure profonde du silicium implique la gravure de caractéristiques de rapport d'aspect élevé sur les plaquettes de silicium, ce qui nécessite un contrôle minutieux de la chimie du plasma et des paramètres du procédé. Le réacteur NOVELLUS SABRE XT est conçu pour répondre aux exigences strictes de la gravure en silicium profond, permettant la production de dispositifs semi-conducteurs de haute qualité avec des structures complexes. Le réacteur LAM RESEARCH SABRE XT intègre une gamme de technologies innovantes pour améliorer ses performances de gravure et sa productivité. Il dispose de sources de plasma avancées, telles que le plasma à couplage inductif (ICP) et le plasma à couplage capacitif (CCP), qui sont optimisées pour différentes applications de gravure. Ces sources plasmatiques permettent un contrôle précis de l'énergie et de la densité ionique, conduisant à une meilleure homogénéité et sélectivité de gravure. En plus de ses capacités de production de plasma, le réacteur SABRE XT est équipé d'un système de distribution de gaz sophistiqué qui permet un contrôle précis de la chimie des gravures. Le réacteur peut accueillir une variété de gaz de procédé, y compris des gaz à base de fluor, qui sont couramment utilisés dans la gravure de semi-conducteurs. Le système de distribution de gaz permet un réglage précis de la chimie de gravure pour atteindre les vitesses de gravure et la sélectivité souhaitées. Le réacteur LAM RESEARCH/NOVELLUS SABRE XT est également conçu pour une productivité et un débit élevés dans les installations de fabrication de semi-conducteurs. Il dispose d'une grande capacité de manutention des plaquettes, permettant le traitement simultané de plusieurs plaquettes en un seul lot. Le réacteur est équipé de mécanismes avancés de manutention des plaquettes, tels que des bras robotiques et des systèmes de mandrin sous vide, pour assurer un chargement et un déchargement efficaces des plaquettes pendant le processus de gravure. Dans l'ensemble, le réacteur NOVELLUS SABRE XT représente une solution de pointe pour les applications avancées de gravure plasma dans la fabrication de semi-conducteurs. Sa technologie avancée de traitement du plasma, ses mécanismes de contrôle précis et ses caractéristiques de productivité élevées en font un outil indispensable pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs de pointe.