Occasion LAM RESEARCH / NOVELLUS Sequel #293614939 à vendre en France

LAM RESEARCH/NOVELLUS Sequel est un procédé combiné de dépôt en phase vapeur (PVD) et de gravure (RIE) pour la fabrication de dispositifs microélectroniques. Cet outil est utilisé pour des applications telles que la formation de couches de matériaux conducteurs et diélectriques à la surface d'un substrat et la création de motifs de dispositifs tels que des contacts et des vias. Le processus séquentiel de l'outil NOVELLUS Sequel est divisé en deux parties. La première partie est le procédé de dépôt physique en phase vapeur (PVD) qui est utilisé pour déposer les couches de matériau conducteur et diélectrique. Cette pièce constitue une chambre à ultra-haut vide qui contient le substrat lors de l'application de la couche de matériau. Le matériau est évaporé d'une source chauffée puis condensé à la surface du substrat conduisant à une couche uniforme. La deuxième partie de ce procédé est l'étape de gravure (RIE) qui sert à définir les caractéristiques telles que des contacts et des vias dans les couches de matériau. Cette étape est réalisée en utilisant un plasma très réactif pour exciter les molécules donneuses. Ce procédé sert de mécanisme pour enlever certains matériaux ou caractéristiques d'une manière précise qui est habituellement difficile à réaliser par les techniques traditionnelles de gravure. La vitesse de gravure contrôlée sur les matériaux est alors affectée par la puissance radiofréquence qui contrôle la densité et l'énergie du plasma. RECHERCHE LAM Le procédé Sequel offre un traitement de surface de meilleure qualité en intégrant les deux procédés dans un même système permettant de combiner les étapes physiques et chimiques du procédé en un seul outil. Grâce à cette double étape, le client peut obtenir une plus grande précision et une meilleure répétabilité pour la fabrication des appareils. Le procédé en deux étapes est également capable d'aspects souhaitables tels que le contrôle précis de la fixation pour diminuer l'épaisseur de la couche des tailles de caractéristiques. En résumé, l'outil Sequel est un outil réacteur de pointe conçu pour permettre la fabrication précise de dispositifs microélectroniques. Il utilise une chambre à deux procédés pour effectuer simultanément les étapes de dépôt physique en phase vapeur (PVD) et de gravure (RIE). Cette technologie de pointe LAM RESEARCH/NOVELLUS Sequel permet une plus grande précision et une meilleure répétabilité en ce qui concerne les caractéristiques des dispositifs.