Occasion LAM RESEARCH / NOVELLUS Vector XT #293649597 à vendre en France

LAM RESEARCH/NOVELLUS Vector XT Reactor est un outil multifonctionnel de gravure et de dépôt pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il combine le traitement laser ultraviolet, la gravure plasma à courant continu, les plasmas haute densité et le dépôt de gaz réactif dans un seul outil pour fournir une solution de traitement complète et automatisée. NOVELLUS Vector XT est une plateforme entièrement intégrée qui offre un contrôle à la fois au niveau du système et de la chambre, permettant une caractérisation et un diagnostic complets des processus in situ. Les capacités de traitement laser ultraviolet de LAM RESEARCH Vector XT fournissent un faisceau de haute précision qui peut précisément graver et déposer des structures nanométriques avec une rugosité de largeur de ligne extrêmement faible. Le laser peut également être utilisé pour former des fentes de taille submicronique avec une précision nette du rasoir et des angles latéraux, ainsi que pour le traitement rapide du « masque noir ». En tirant parti de la gravure plasma à courant direct, Vector XT permet aux utilisateurs de créer des rapports d'aspect élevés, des tranchées profondes et des fonctionnalités comme le blindage périphérique en utilisant des techniques CCM avancées. Cela élimine également la nécessité d'étapes supplémentaires de pré-gravure, accélérant le temps de cycle et réduisant le coût. LAM RESEARCH/NOVELLUS Vector XT soutient également le plasma haute densité (HDP) pour le dépôt de métaux avancés, d'oxydes et de diélectriques. Ces procédés HDP provoquent un réaménagement minimal, nécessaire au dépôt de matériaux présentant une mauvaise adhérence sur les surfaces. NOVELLUS Vector XT supporte également le dépôt réactif de gaz pour améliorer encore le contrôle de la structure du film. Cela élimine les traitements post-dépôt comme le nettoyage, le rinçage, le durcissement et le conditionnement, réduisant le temps de cycle total. Pour affiner ses capacités, LAM RESEARCH Vector XT intègre une gamme de diagnostics pour relever les défis en temps réel in situ. Il est équipé d'un spectromètre optique in situ qui fournit une analyse multi-longueurs d'onde pour évaluer la vitesse de gravure, la vitesse de dépôt et les caractéristiques des matériaux. Cela permet d'ajuster en permanence les paramètres du processus et d'atteindre un équilibre optimal entre rendement, productivité et performance du dispositif. De plus, Vector XT prend également en charge la métrologie RF sur plaquette pour surveiller la vitesse de gravure et la précision en temps réel. Dans l'ensemble, LAM RESEARCH/NOVELLUS Vector XT Reactor est un outil multichambre tout-en-un pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il offre un traitement à l'échelle nanométrique de précision, des capacités de gravure à haut rapport d'aspect, des dépôts plasmatiques à haute densité et des dépôts gazeux réactifs. NOVELLUS Vector XT propose également des diagnostics avancés, y compris la spectrométrie optique et la surveillance RF sur plaquettes, pour assurer une caractérisation et un contrôle optimaux des processus. Cette combinaison de caractéristiques fournit une solution complète pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs.