Occasion LAM RESEARCH Sabre 3D #293811097 à vendre en France

LAM RESEARCH Le réacteur Sabre 3D est un outil de gravure de pointe spécialement conçu pour la fabrication à haut rapport d'aspect dans l'industrie des semi-conducteurs. Ce système monobloc utilise la technologie plasma à résonance cyclotron (ECR) de pointe pour générer des performances de gravure supérieures et optimiser les taux de gravure des matériaux difficiles. Les performances du réacteur Sabre 3D sont nettement améliorées par rapport aux systèmes ECR classiques grâce à l'incorporation d'une électrode 3D avancée dans la chambre de réaction. Cette conception permet à l'utilisateur d'obtenir des résultats de micromachinage précis avec un meilleur contrôle des processus. LAM RESEARCH Le réacteur Sabre 3D est conçu pour faciliter le prototypage rapide et la fabrication de fonctionnalités dans des nœuds de technologie submicroniques profonds à haut débit. La source de plasma ECR, combinée avec les sources intégrées à haute fréquence volumétrique ECR, permet à l'utilisateur de graver un large éventail de matériaux tels que le silicium, le cuivre, l'aluminium, etc. La couche de passivation en nitrure du réacteur Sabre 3D est conçue pour permettre une gravure rapide sans compromettre l'intégrité de la plaquette, et les capacités de nettoyage in situ assurent une contamination ou des dommages de surface minimes. L'uniformité du processus de gravure peut encore être améliorée grâce à l'intégration de techniques avancées de gestion des flux. Cela permet une uniformité sur toute la surface de la plaquette, ce qui est important pour l'optimisation du processus et le contrôle des défauts. De plus, le réacteur LAM RESEARCH Sabre 3D offre des systèmes intégrés de distribution de gaz pour faciliter la configuration des procédés et améliorer le contrôle des procédés. Ces systèmes permettent un contrôle précis des paramètres pour adapter le processus de gravure. Le contrôle de procédé supérieur offert par le réacteur Sabre 3D, combiné à son débit élevé, en fait un choix idéal pour la fabrication de rapports d'aspect élevés. Sa conception innovante d'électrodes tridimensionnelles assure une uniformité dans le processus de gravure ainsi qu'une réduction des temps d'arrêt grâce à sa capacité à maintenir la chambre propre. C'est un outil flexible et puissant pour la fabrication de submicrons profonds et un choix fiable pour les industries nécessitant un contrôle précis des procédés.