Occasion LAM RESEARCH Sabre 3D #9269753 à vendre en France
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Vendu
ID: 9269753
Plating system, 12"
Process: RDL
Operating system: Windows XP
Footprint:
Front end and back end robot
Wafer aligner
CDM for APT module
CDM for XMM module
PPT Module (2/4)
Plate A duet (1/2)
Bath module 1
Plate A flow distribution (1/2)
PMA Bath configuration: AANN
CE System settings:
Pod loader with buttons and lights-PS
Notch wafer, 12"
Standard polarity
Signal tower
EIOC Support
Advanced FA GEM and data server
HSMS Host connection
SEMI E84 Automated material handling system
Wafer history
Proteus configuration
Facilities chemical interface
Single arm front end robot
Dual arm back end robot
Real time clock timestamp source
Wafer aligner
CWS Wafer size detection
Single clamshell lift controller
CE Module front end settings:
IOC Type: Ethernet based IOC
(25) Wafers per cassette
SEMI E84 Automated cassette transfer
Active wafer centering
CA Event mode
(3) Load ports
Traverser (slide axis) vacuum robot
Ethernet pod loader communication
Extended fix loader command mode
With pod present sensor
Standard fix loader hardware
With pod present sensor
Default AMHS setting
Serial Port RFID communication
PPT2 AWC Enabled checking firmware
Robot pod loader map source
Pod loader, 13"
CE Module CDM for APT module:
ADM Process delivery: DI Process
CE Module CDM for XMM module:
PCDM Module type: SRD Configuration module
CE Module PPT module 2:
Notch wafer, 13"
Post treatment PPT module
PPT Tank type: ADM Process DI
Super cell configuration: SRD
Valve position sensors
DI Flow meter
CE Module PPT module 4:
Notch wafer, 13"
Post treatment PPT module type
Super cell configuration: SRD
Active Wafer Detection (AWD)
Valve position sensors
DI flow meters
N2 Dry
CE Module plate A duet 1 and 2:
Notch wafer, 13"
Cup and contact rinse
Separate Anode Chamber (SAC): Cascade
Serial plating power supply control
Single power supply
Cell flow meters: 5 to 50 Liters
88 I/O EIOC
Valve position sensors
SAC Flow meter
Standard SAC pump
CE Module bath module 1:
Chemical Monitoring System (CMS)
Enhanced CMS command set
Copper chemical package
Multi species dosing algorithm
(5) Species
Separate Anode Chamber (SAC): Cascade
Chemistry tray container bottles
(3) Organic dosing containers
NESLAB Heater chiller
VMS Facility request channel 1
Pump organic dose delivery
Dose pump flow switch
88 I/O EIOC
Central recirculation pump
Renner recirculation pump
Bath module 1
CE Module plate-A flow distribution 1 and 2:
FDM Flow meter: 0 to 80 LPM
Independent FDM pump
Central recirculation pump
No PMB Bath
2017 vintage.
LAM RESEARCH Sabre 3D est un équipement de lithographie de faisceaux d'électrons à haute vitesse et en écriture directe capable de produire des structures tridimensionnelles de dimensions aussi petites que 30 nanomètres. Il utilise une source de faisceau d'électrons unique, en attente de brevet, qui lui donne des performances inégalées en vitesse, résolution et fidélité de motif. Le système Sabre 3D comprend une chambre à vide, un étage motorisé et un porte-plaquettes, une source de faisceau d'électrons, une unité d'imagerie et un ordinateur de commande. La chambre à vide crée une atmosphère de vide élevé (~ 10-9 torr) qui est nécessaire pour que le faisceau d'électrons circule sans entrave jusqu'à la plaquette. L'étage motorisé positionne la plaquette d'échantillon dans la chambre, et le porte-plaquette maintient la plaquette en place. Le faisceau d'électrons est généré et accéléré dans une colonne d'électrons sans champ, ce qui minimise la diffusion et la déflexion du champ. Le faisceau passe par une machine d'imagerie électro-optique, qui image le motif sur la plaquette. L'outil comprend également un calculateur de commande qui assure le traitement et le contrôle nécessaires du signal des étages d'actifs d'imagerie et de plaquettes, et qui est relié à un générateur de motifs propre à l'appareil. Cela permet à l'utilisateur de définir les motifs désirés et de les introduire dans le modèle. L'utilisateur peut facilement utiliser et calibrer l'équipement avec l'interface graphique intuitive de l'ordinateur de contrôle. LAM RESEARCH Le système Sabre 3D est capable d'imager des motifs de très haute résolution sur des plaquettes en n'importe quel matériau, y compris des matériaux de qualité semi-conductrice. Il dispose également d'énergies focalisées de faisceau d'électrons jusqu'à 15 keV et de courant de faisceau jusqu'à 100nA, avec des vitesses d'écriture de motif jusqu'à 175 wafers/heure. Cela permet la création de structures tridimensionnelles avec des tailles de caractéristiques aussi petites que 30 nm. Sabre 3D est un outil inestimable pour la recherche et le développement de nouveaux matériaux et procédés de fabrication, en particulier ceux impliquant des structures nanométriques. Cette machine offre une solution économique et performante aux défis posés par une fabrication atomiquement précise. C'est le choix idéal pour les chercheurs et les fabricants qui exigent une précision et une vitesse ultimes.
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