Occasion LAM RESEARCH Sabre XT #9223294 à vendre en France

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Fabricant
LAM RESEARCH
Modèle
Sabre XT
ID: 9223294
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2007
Electro copper plating system, 8" Wafer cassette: 25 Wafer Mini-environment: SYNETICS Chase computer/monitor: Desktop PC/CRT Exhaust kit: Top mount Drain kit: Backside Cassette handler module: Load port: Static nests, (4) stations Wafer aligner type: Mechanical center finder Robot type: AQR7 BROOKS End effector: SST x/Vacuum port Mapping type: Thru-beam Wafer release: With puff Plating cell configuration: Cell 1 / Cell 2 / Cell 3: Clamshell type: Standard Clamshell cup type: PPS Clamshell cylinder: Pressure vacuum cylinder ANODE Type: Standard (2) TI Cables SAC Clamshell lift: IAI ACR Active top hat Plating power: AE Pulse power supply Post plating cell configuration: Cell 1 / Cell 2 / Cell 3: Chuck type: PPS Wafer present sensor mount: Standard EBR Bath Module Totalizer #1 / #2: FLORITE Dosing pump 1 / 2 / 3: MS1602-024 Recirculation pump mpdel: IWAKI WALCHEM CMD-101 CDM Level sensor type: KEYANCE Heat exchanger: NESLAB HX-75 Auxiliary equipment: Chemical monitoring system (CMS): ECI QLC-7000 Chemical delivery system (CDS) Mini delivery system (MDS) DI Water delivery system Input voltage: 208 VAC, 50/60 Hz, 100 A 2007 vintage.
LAM RESEARCH Sabre XT est un équipement à plasma atmosphérique à basse pression et à plusieurs chambres conçu pour optimiser les processus de gravure et de dépôt dans l'industrie des semi-conducteurs. Il s'agit de la deuxième génération de produits de la famille Sabre et est le résultat de recherches approfondies menées par les ingénieurs de LAM RESEARCH. Sabre XT dispose d'une technologie de pointe pour améliorer les performances et le contrôle des processus. Il est équipé d'un système à plusieurs étages couplé magnétiquement qui réduit le saignement de la chambre de dépôt, assurant un meilleur contrôle de la sélectivité des gravures et des caractéristiques du profil. Le réacteur est également équipé d'un procédé de chauffage au feu à basse pression, à quatre zones, conçu pour assurer des taux de dépôt uniformes à l'intérieur de la chambre de gravure afin d'obtenir des résultats optimaux. En outre, LAM RESEARCH Sabre XT contient également une unité de relais de puissance distribuée et un progiciel PMC (Process Monitoring and Control) pour le contrôle et l'optimisation uniformes des processus. Sabre XT dispose également d'une chambre « programmable » pour l'automatisation et la personnalisation des processus. Cela permet un contrôle précis des paramètres du processus de gravure et de dépôt, améliorant encore les rendements en débit et en gravure. LAM RESEARCH Sabre XT dispose d'un masqueur de particules et d'une machine à filtrer qui peuvent aider à réduire les effets de l'accumulation de particules, assurant une surface de réaction plus propre et plus uniforme. Sabre XT est un outil polyvalent qui a été conçu pour aider à la production d'une grande variété de produits semi-conducteurs, y compris DRAM, mémoire flash, microcontrôleurs, logique programmable, CPU, IC mémoire, et SoCs. C'est un atout de référence pour de nombreuses lignes de production et il est capable de réaliser des procédés haut de gamme tels que l'ajustement de profondeur de gravure et la lithographie. Le réacteur est très fiable, avec un temps moyen entre les pannes de 20 000 heures. LAM RESEARCH Sabre XT est un modèle de réacteur robuste et fiable qui est parfait pour toute ligne de production de semi-conducteurs. Avec sa technologie de pointe, sa chambre programmable, son masqueur de particules supérieur et son équipement de filtrage, Sabre XT est la solution idéale pour atteindre la meilleure qualité dans les processus de gravure et de dépôt.
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