Occasion LAM RESEARCH Sabre XT #9223294 à vendre en France
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Vendu
ID: 9223294
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2007
Electro copper plating system, 8"
Wafer cassette: 25 Wafer
Mini-environment: SYNETICS
Chase computer/monitor: Desktop PC/CRT
Exhaust kit: Top mount
Drain kit: Backside
Cassette handler module:
Load port: Static nests, (4) stations
Wafer aligner type: Mechanical center finder
Robot type: AQR7 BROOKS
End effector: SST x/Vacuum port
Mapping type: Thru-beam
Wafer release: With puff
Plating cell configuration:
Cell 1 / Cell 2 / Cell 3:
Clamshell type: Standard
Clamshell cup type: PPS
Clamshell cylinder: Pressure vacuum cylinder
ANODE Type: Standard
(2) TI Cables
SAC
Clamshell lift: IAI
ACR
Active top hat
Plating power: AE Pulse power supply
Post plating cell configuration:
Cell 1 / Cell 2 / Cell 3:
Chuck type: PPS
Wafer present sensor mount: Standard
EBR
Bath Module
Totalizer #1 / #2: FLORITE
Dosing pump 1 / 2 / 3: MS1602-024
Recirculation pump mpdel: IWAKI WALCHEM CMD-101
CDM Level sensor type: KEYANCE
Heat exchanger: NESLAB HX-75
Auxiliary equipment:
Chemical monitoring system (CMS): ECI QLC-7000
Chemical delivery system (CDS)
Mini delivery system (MDS)
DI Water delivery system
Input voltage: 208 VAC, 50/60 Hz, 100 A
2007 vintage.
LAM RESEARCH Sabre XT est un équipement à plasma atmosphérique à basse pression et à plusieurs chambres conçu pour optimiser les processus de gravure et de dépôt dans l'industrie des semi-conducteurs. Il s'agit de la deuxième génération de produits de la famille Sabre et est le résultat de recherches approfondies menées par les ingénieurs de LAM RESEARCH. Sabre XT dispose d'une technologie de pointe pour améliorer les performances et le contrôle des processus. Il est équipé d'un système à plusieurs étages couplé magnétiquement qui réduit le saignement de la chambre de dépôt, assurant un meilleur contrôle de la sélectivité des gravures et des caractéristiques du profil. Le réacteur est également équipé d'un procédé de chauffage au feu à basse pression, à quatre zones, conçu pour assurer des taux de dépôt uniformes à l'intérieur de la chambre de gravure afin d'obtenir des résultats optimaux. En outre, LAM RESEARCH Sabre XT contient également une unité de relais de puissance distribuée et un progiciel PMC (Process Monitoring and Control) pour le contrôle et l'optimisation uniformes des processus. Sabre XT dispose également d'une chambre « programmable » pour l'automatisation et la personnalisation des processus. Cela permet un contrôle précis des paramètres du processus de gravure et de dépôt, améliorant encore les rendements en débit et en gravure. LAM RESEARCH Sabre XT dispose d'un masqueur de particules et d'une machine à filtrer qui peuvent aider à réduire les effets de l'accumulation de particules, assurant une surface de réaction plus propre et plus uniforme. Sabre XT est un outil polyvalent qui a été conçu pour aider à la production d'une grande variété de produits semi-conducteurs, y compris DRAM, mémoire flash, microcontrôleurs, logique programmable, CPU, IC mémoire, et SoCs. C'est un atout de référence pour de nombreuses lignes de production et il est capable de réaliser des procédés haut de gamme tels que l'ajustement de profondeur de gravure et la lithographie. Le réacteur est très fiable, avec un temps moyen entre les pannes de 20 000 heures. LAM RESEARCH Sabre XT est un modèle de réacteur robuste et fiable qui est parfait pour toute ligne de production de semi-conducteurs. Avec sa technologie de pointe, sa chambre programmable, son masqueur de particules supérieur et son équipement de filtrage, Sabre XT est la solution idéale pour atteindre la meilleure qualité dans les processus de gravure et de dépôt.
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