Occasion LAM RESEARCH STRATA-GX #293626279 à vendre en France

LAM RESEARCH STRATA-GX est un réacteur à haute performance à couplage inductif à base de plasma conçu pour fournir des capacités de traitement de gravure avancées pour une grande variété de substrats. La combinaison de la construction de la chambre et des composants du réacteur permet un traitement par plasma haute densité (HDP) reproductible à une vitesse de traitement améliorée. Le réacteur STRATA-GX fournit une gravure géométrique uniforme à grande vitesse avec une faible distorsion de substrat pour diverses applications, y compris les applications MEMS, silicium profond, biomédical et écran plat. Le réacteur combine une source de suscepteur multi-points, une source de plasma à couplage inductif à trois zones (LICP) et un système de distribution de puissance uniforme, qui permettent la génération de résultats répétables dans une variété de flux de processus et de taux de gravure multiples. LAM RESEARCH STRATA-GX est conçu pour réduire davantage les dommages plasmatiques et optimiser les processus de gravure en fournissant une uniformité exceptionnelle sur une large fenêtre de processus. La conception du réacteur STRATA-GX permet un large éventail de paramètres de processus, y compris le contrôle de la densité du plasma, les profils de pression personnalisés, la synchronisation de plasmas multiples, l'uniformité multi-points et le contrôle de la puissance. Cette flexibilité permet à l'utilisateur d'optimiser les performances de gravure et de bénéficier d'un contrôle avancé des processus. LAM RESEARCH STRATA-GX est optimisé pour les interactions de chimie du plasma qui aident à réduire la formation de particules et les dommages de gravure. Le réacteur dispose d'une fonction de commande optimisée en modulation de largeur d'impulsion (PWM) qui permet de contrôler à la fois les réactifs et les gaz produits. La fonction PWM contrôle en outre la mobilité des réactifs et permet une plus grande uniformité et moins de biais de gravure. STRATA-GX dispose également d'un système d'ouverture avancé qui permet de placer de plus grandes ouvertures sur un substrat assurant une plus grande uniformité à des taux de gravure plus élevés. Le système d'ouverture aide également à améliorer la sélectivité des gravures où le taux de gravure est plus élevé pour un matériau par rapport à un autre. Le réacteur STRATA-GX de LAM RESEARCH fournit un débit inégalé pour la production de dispositifs à haut volume et est également compatible avec la plupart des composants de traitement de gravure existants. STRATA-GX est un outil idéal pour les ingénieurs d'appareils cherchant à obtenir un avantage concurrentiel dans leurs capacités de production de gravures.