Occasion MATTSON EpiPro 3000 #9003702 à vendre en France
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ID: 9003702
Reactors
Dual station
Chamber: 94" x 50" x 62"
R2 Reactor chamber: 94" x 50" x 62"
Electrical console
AC Power module
Remote interface module
UPS Module
Pillar vacuum tube oscillator RF generators, 125 kW
Generator pump module: (Pillar only)
(2) Bell jars
RF Coils assy and quartz
Heat exchanger: Water to water
Gas inlet requirements:
Gas / Inlet pressure / Tubing diameter x wall thickness
N2 / 50-100 PSIG (1) / 3/8" x 0.035"
H2 / 50-80 PSIG (2) / 3/8" x 0.035"
HCL / 15 PSIG Regulated (3) / 1/4" x 0.035"
Dopants / 35 PSIG Regulated / 1/4" x 0.035"
SiCl4 / 20 PSIG Regulated / 3/8" x 0.035"
SiHCl3 / 20 PSIG Regulated / 3/8" x 0.035"
SiH2Cl2 / 7 PSIG Minimum / 3/8" x 0.035"
Pneumatic Air/N2 / 90-100 PSIG Regulated / 3/8" x 0.035"
N2 (Vacuum seal) / 80-100 PSIG (3) / 1/4" x 0.035"(1)
Gas purity:
H2: Greater than 99.95% minimum assay
Oxygen content must be less than 2 ppm
Water content must be less than 2 ppm
HCl: Greater than 99.99% (semiconductor grade)
Silicon sources – Greater than 100 ohm/cm intrinsic
Dopants: Greater than 99.99% H2 free basis
Maximum gas flows and volumes:
System / H2 / N2 / H2 / N2
Mainstream / 300 / 70 (2) / 300 / 70
High flow bypass (Fixed) / 200 / 100 (1) / 200 / 100 (1)
SiCl4 / SiHCl3 Carrier / 30 / - / - / -
Dopants dilution / 30 / - / - / -
RF Coil / Lower reactor purges / 30 / 10 / 30 / 10
Gas panel purges (Fixed) / 12 / 4 / - / -
Rotation purges (Fixed) / 10 / 2 / 10 / 2
Total N2/H2 flows / 612 / 186 / 540 / 182 (1) N2 flow rate during pre-post purge
Quartz cleaning facility:
Pedestal / 30-0R-281 / 4 1/2" diameter x 12" long
Support rod / 30-0R-139 / 1" diameter x 5" long
Coil cover / 30-0Z-000 / 25" diameter x 2" thick
Insulator, high Side / 30-0Z-857 / 3" diameter x 6" long
Insulator, bottom / 30-0Z-766 / 4 1/2" diameter x 1/4" thick
Insulator, top / 30-0Z-791 / 4 1/2" diameter x 1/4" thick
Insulator, high side / 30-0Z-793 / 5" x 4"
Insulator, middle / 30-0Z-794 / 5" x 4"
Inject tube / 30-0Z-758 / 1/2" diameter x 11" long
Tube cover / 30-0Z-1037 / 1/2" diameter x 9" long
Rod, fiber optic / 30-0Z-1037 / 1/4" diameter x 13"
Power requirements:
RF Generator: 480 VAC, 400 A, 3-Phase, +GND
Water system: 480 VAC, 30 A, 3-Phase, +GND
Electrical service: 10 KVA at 200-240 VAC, 50 amps, 50/60 Hz, single phase, 3 wire (6 ga) plus ground.
MATTSON EpiPro 3000 est un réacteur de dépôt semi-conducteur avancé conçu pour l'épitaxie et le dépôt à grande surface. Ce réacteur offre une production fiable avec un coût de propriété réduit. Il dispose d'un fonctionnement haute température et haute précision pour des plaquettes jusqu'à 500 mm, offrant une homogénéité de processus répétable pour un coût de propriété très réduit. EpiPro 3000 utilise des conceptions et des fonctionnalités avancées pour assurer la répétabilité et la précision de chaque processus de dépôt de semi-conducteurs. Il dispose d'une source de gaz à faible vibration sans collision permettant des résultats de traitement vraiment uniformes. L'étage de la plaquette est piloté par un équipement de contrôle de mouvement ultra-précis qui offre une stabilité et une répétabilité maximales. Le fonctionnement à haute température de ce réacteur est optimisé grâce à l'utilisation d'une isolation blindée métal-céramique à haut rendement. Le système breveté d'entraînement des électrodes fermées élimine le besoin de compensation des vibrations et des dérives et garantit un timing précis de l'électrode et une stabilité maximale. MATTSON EpiPro 3000 offre une variété de fonctionnalités d'amélioration des performances, telles que la gestion programmable des recettes, l'analyse et le suivi in situ, et le réseautage distribué. Ces caractéristiques permettent aux utilisateurs de mieux contrôler et d'améliorer la précision de chaque processus de dépôt. La convivialité du réacteur est encore renforcée par son unité de commande intégrée qui nécessite une intervention minimale de l'opérateur. En outre, EpiPro 3000 offre une gamme complète de fonctions de protection de l'environnement, telles que la purge des gaz et les unités d'épuration. Cela garantit que le réacteur respecte les normes de sécurité régionales. Le réacteur est construit avec sûreté et fiabilité à l'esprit et est équipé d'une machine de maintenance préventive efficace pour maximiser le temps disponible et la stabilité du processus. MATTSON EpiPro 3000 est un réacteur de dépôt avancé et performant qui offre une répétabilité et une précision de procédé supérieures. Son faible coût de propriété et sa conception conviviale en font un choix idéal pour un large éventail d'applications impliquant des processus de dépôt de semi-conducteurs de grande surface.
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