Occasion MOORFIELD NANOTECHNOLOGY NanoPVD S-10A #293772742 à vendre en France

NANOTECHNOLOGIE DU CHAMP DE MOORFIELD Le PVD S-10A est un réacteur de dépôt physique en phase vapeur (PVD) de pointe conçu pour le dépôt précis et efficace de couches minces sur des substrats à l'échelle nanométrique. Cet équipement de haute performance intègre une technologie de pointe et des caractéristiques de conception intelligentes pour permettre aux chercheurs et aux fabricants d'obtenir un contrôle supérieur sur les procédés de dépôt de couches minces pour un large éventail d'applications dans les domaines de la nanotechnologie, de l'optique, de l'électronique et des technologies émergentes. Le PVD S-10A de Nand utilise un procédé de pulvérisation magnétron pour le dépôt, qui implique l'ionisation des atomes de gaz pour créer un plasma qui pulvérise la matière d'une cible sur un substrat. Cela permet le dépôt de divers matériaux, dont les métaux, les oxydes et les nitrures, avec une pureté et une uniformité élevées. La chambre du réacteur est équipée de composants de haute qualité, tels qu'un porte-substrat rotatif, des sources de pulvérisation magnétron et des outils de surveillance in situ, pour assurer un contrôle précis et une cohérence dans le dépôt de couches minces. L'une des caractéristiques clés de la nanotechnologie de MOORFIELD Le PVD S-10A de MOORFIELD est son système de vide avancé, qui permet de réaliser le processus de dépôt dans un environnement contrôlé et exempt de contamination. Le réacteur est équipé de pompes turbomoléculaires et rotatives haute performance à aubes, ainsi que d'une unité de traitement des gaz sophistiquée, pour atteindre et maintenir des conditions de vide ultra-élevé pendant le dépôt. Ceci assure le dépôt de couches minces de haute qualité avec un minimum d'impuretés et de défauts. NanoPVD S-10A est aussi conçu à l'aisance d'utilisation et d'adaptabilité, avec une interface facile à utiliser et un logiciel qui tiennent compte de la fabrication sur commande de paramètres de déposition et des processus. La machine est équipée de fonctions de surveillance et de contrôle en temps réel, telles que le contrôle de la vitesse de dépôt, la mesure de l'épaisseur du film et le contrôle de la température du substrat, afin d'optimiser le processus de dépôt et d'obtenir les propriétés de couche mince souhaitées. En outre, la nanotechnologie de MOORFIELD NéterminPVD S-10A offre une évolutivité et une flexibilité en termes de taille du substrat et de compatibilité des matériaux. L'outil peut accueillir différentes tailles et types de substrat, y compris des substrats rigides et souples, et est compatible avec une large gamme de matériaux de dépôt, permettant le dépôt de structures multicouches et d'hétérostructures complexes. En général, NanoPVD S-10A est un état du réacteur de PVD d'art qui combine la technologie avancée, le contrôle de précision et la flexibilité pour satisfaire les besoins exigeants de recherche et d'applications industrielles dans la nanotechnologie et les champs rattachés. Grâce à ses capacités de haute performance et à son fonctionnement intuitif, MOORFIELD NANOTECHNOLOGY Novine PVD S-10A permet aux utilisateurs de réaliser des dépôts de couches minces précis et reproductibles pour un large éventail d'applications, ce qui en fait un outil précieux pour faire progresser la recherche et le développement de produits dans le domaine en évolution rapide des nanotechnologies.