Occasion NOVELLUS Altus #9261397 à vendre en France

NOVELLUS Altus est un réacteur de nouvelle génération de dépôt chimique à haute pression (HPCVD) développé par NOVELLUS. C'est le premier équipement à amener le procédé de dépôt en couches minces de HPCVD dans l'environnement ultra-haute pression de 20 atmosphères ou plus. Cette technologie révolutionnaire permet le dépôt de couches minces homogènes de haute qualité avec une adhérence supérieure, un excellent contrôle de qualité et une faible contamination. Altus est un système multi-chambres, c'est-à-dire qu'il dispose d'une chambre principale et d'une chambre de processus in situ qui supporte trois systèmes de distribution de gaz distincts pour le dépôt, le nettoyage et le recuit. Il offre également un module innovant de dépôt à haute pression qui permet un contrôle précis des conditions du procédé, de la pression et de la température au flux gazeux et au mélange. Le processus de dépôt dans NOVELLUS Altus peut être adapté à différents types de matériaux. Il est très efficace et assure une répartition uniforme des épaisseurs de couche sur le substrat. En outre, il offre de faibles niveaux de contamination, ce qui donne des produits de qualité supérieure avec des défauts minimes. Altus est une unité très polyvalente et peut être utilisée pour une large gamme d'applications de dépôt en couches minces telles que les écrans plats, les puces semi-conductrices et les dispositifs de stockage de données. Il est également conçu pour être économe en énergie, avec des caractéristiques telles que la filtration recyclée de l'énergie, l'atomisation du gaz, le balayage à basse pression du CO2, et les vannes conçues pour conserver l'énergie. La machine NOVELLUS Altus est très conviviale et peut être utilisée facilement. Il est construit avec un processus de maintenance sûr et facile à utiliser et une interface utilisateur intuitive assure un fonctionnement et une configuration rapides, réduisant les temps d'arrêt. Dans l'ensemble, Altus est un réacteur HPCVD avancé qui offre une excellente uniformité, une faible contamination et des capacités de dépôt ultra-haute pression pour une large gamme d'applications en couches minces. C'est un outil très efficace, polyvalent et convivial pour des performances supérieures et des films minces supérieurs.