Occasion NOVELLUS C2-CVDD Concept 2 #293648738 à vendre en France

Le réacteur NOVELLUS Concept 2 CVDD (Chemical Vapor Deposition) est un équipement de pointe de dépôt chimique en phase vapeur à plusieurs chambres conçu pour déposer des couches minces à des vitesses élevées et avec une grande uniformité. Ce système utilise une conception de chambre unique pour obtenir des vitesses de dépôt rapides et une plage de fonctionnement à basse température pour permettre le dépôt de films plus épais. L'unité CVDD Concept 2 se compose d'une chambre de verrouillage de charge et d'une chambre de transfert de plaquettes qui sont utilisées pour transférer des plaquettes de traitement à l'intérieur et à l'extérieur de la chambre de traitement de dépôt. La chambre de serrure est également utilisée pour le chargement et le transfert directs des plaquettes, ce qui signifie que le chargement et le déchargement manuels ne sont pas nécessaires. Cela aide à réduire la contamination et facilite l'utilisation de la machine CVDD. La chambre de procédé de dépôt est un outil multi-chambres constitué d'une chambre de prémélange de gaz, d'une chambre de dépôt et d'une chambre de stockage de gaz. La chambre de pré-mélange de gaz est utilisée pour mélanger un précurseur et un gaz porteur inerte avant l'entrée dans la chambre de dépôt. En pré-mélangeant les précurseurs, ce procédé permet d'assurer l'uniformité du processus de dépôt. La chambre de dépôt est celle où s'effectue le dépôt proprement dit du film mince. Cette chambre est destinée à fonctionner à basse température de consigne, typiquement autour de 500C pour permettre le dépôt de films plus épais. La chambre de stockage de gaz sert à stocker le gaz à la pression et à la température requises. Cela aide à réduire la quantité de gaz utilisée pendant le fonctionnement. L'ensemble de l'actif CVDD est contrôlé par un modèle informatique, qui est utilisé pour gérer le processus de dépôt et surveiller les résultats. L'équipement CVDD NOVELLUS Concept 2 est un procédé fiable et reproductible qui est utilisé dans un large éventail d'applications industrielles et de recherche. Ce système est capable de déposer des couches minces allant de 10nm à 500nm d'épaisseur. En outre, cette unité peut déposer des couches minces transparentes, réfléchissantes et opaques selon l'application. La machine CVDD NOVELLUS Concept 2 est un outil fiable et polyvalent pour le dépôt de films minces.