Occasion NOVELLUS Chambers for Inova #9282131 à vendre en France

ID: 9282131
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2012
Metal PVD system, 12" 2012 vintage.
NOVELLUS Chambers for Inova est un réacteur conçu pour le traitement de matériaux avancés. Ce réacteur est une chambre PECVD construite avec un générateur de plasma à induction de 330 MHz, 8 kW. Il a une chambre cylindrique de 66 cm de profondeur, et une plaque supérieure conçue pour contenir le plasma HF à une pression comprise entre 0,3 et 0,7 Torr. Cette chambre est idéale pour les tissus qui nécessitent des taux élevés de dépôt et d'uniformité à haute température. Le réacteur est capable d'atteindre une large gamme de températures, allant de 20 ° C à 1100 ° C, ce qui permet d'exécuter un large éventail de procédés dans cette chambre. Le cœur de Chambers for Inova est le générateur de plasma à induction, qui est un composant clé pour le fonctionnement fiable de la chambre. Le générateur de plasma utilise un transformateur multi-canaux qui transforme une alimentation alternative en alimentation continue afin d'augmenter la fiabilité et la puissance du plasma. Le courant alternatif est alors traversé par un certain nombre de bobines, créant un champ électrique pour générer le plasma. Cet équipement est conçu avec la puissance et la largeur de bande pour assurer la cohérence du plasma pendant la durée du processus de dépôt. La chambre dispose également d'un système de contrôle dynamique qui est conçu pour surveiller et contrôler les paramètres plasmatiques afin d'assurer l'uniformité au sein de la chambre. L'unité de contrôle surveille le niveau des potentiels de canal dans le générateur de plasma, ainsi que la pression à l'intérieur de la chambre. En outre, la machine de commande est également capable de régler la puissance du plasma afin de minimiser les risques d'endommagement des matériaux en cours de traitement. NOVELLUS Chambers for Inova est conçu pour être très efficace, car il est capable d'atteindre des taux de dépôt élevés à des températures aussi basses que 20 ° C De plus, la chambre est capable d'obtenir des taux de dépôt uniformes sur de grandes surfaces avec des erreurs de taux de dépôt très faibles. Ce réacteur est un choix idéal pour la fabrication de matériaux avancés de haute performance, en raison de sa combinaison d'une grande précision et efficacité.
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